中國粉體網(wǎng)訊 近日,盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司通過微信公眾號平臺宣布,其推出了新型化學(xué)機械研磨后(Post-CMP)清洗設(shè)備。盛美上海指出,這是公司第一款Post-CMP清洗設(shè)備,該設(shè)備可用于制造高質(zhì)量襯底化學(xué)機械研[更多]
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