上海依肯機械設備有限公司
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醫(yī)藥口服液膠體磨,口服液研磨均質(zhì)機,口服混懸液膠磨機,口服混懸液膠體磨,醫(yī)藥混懸液膠磨機,混懸液膠磨機,混懸液高剪切膠磨機
IKN研磨機為立式分體結(jié)構,精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
口服混懸液膠磨機,口服混懸液高剪切膠體磨,通過超高的轉(zhuǎn)速和剪切速率減小物料微粒的粒徑,配合正確的工藝,從而使混懸液達到一種穩(wěn)定的狀態(tài)。
混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題。混懸液中藥物微粒分散度大,微粒與分散介質(zhì)之間存在著物理界面,使混懸微粒具有較高的表面自由能,混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。若要制得沉降緩慢的混懸液,應減少顆粒的大小,增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。
口服混懸液膠磨機de 剪切速率可以超過10000rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布就更窄。
CMD2000模塊主要由兩層分散頭構成,工作時,物料通過投料口進入分散腔,首先到達層分散頭進行處理,由于馬達帶動轉(zhuǎn)子齒列高速運轉(zhuǎn),產(chǎn)生渦流和離心力效應使得物料軸向吸入分散頭,然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用,之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切,接著流出的物料進入第二層分散頭腔體,對處理過的物料再次進行剪切(原理同上),從而確?;旌戏稚@得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,生成的混合液穩(wěn)定性更好,滿足疫苗生產(chǎn)對于粒徑的要求。
口服混懸液膠磨機,主要通過液滴在高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子和定子間的間隙內(nèi)被剪切,以及由此間隙和轉(zhuǎn)子—定子上小孔射流的綜合效應來實現(xiàn)。高速旋轉(zhuǎn)的液滴受慣性離心力的推動,具有極大的沖擊力,因而產(chǎn)生撞擊作用。離心力的作用使未進入環(huán)隙時的液體具有一定壓力,而進入環(huán)隙后成為高速旋轉(zhuǎn)液流,液體離開定子小孔后壓力又回升,所以也有一定的空穴效應。高剪切均質(zhì)機高速旋轉(zhuǎn)時的液滴流動狀況相當復雜,主要受控于作用在液滴表面不斷變化的流動速度和由此產(chǎn)生的脈動壓力,從而發(fā)生了分裂液滴的張力,使液滴破裂。
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%。 |
剪切速率取決于以下因素:
§ 轉(zhuǎn)子的線速率
§ 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
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上海市松江區(qū)九新公路865號2幢101室-1成立日期
2009-6-9注冊資本
100萬有效期限
無限經(jīng)營范圍
機械設備及配件生產(chǎn)、加工,機械設備,五金交電,儀器儀表,實驗室設備銷售,從事機械設備、計算機、電子、化工領域內(nèi)技術開發(fā)、 技術咨詢、技術轉(zhuǎn)讓、技術服務,從事貨物及技術的進出口業(yè)務。
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