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鏡面金漿管線式高剪切研磨分散機，銀漿的制備方法，高速研磨分散機，高剪切研磨分散機，管線式研磨分散機，德國進口研磨分散機，升級版膠體磨，改進型膠體磨

IKN研磨分散機設計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。

鏡面金漿的制備方法，包括步驟1、在一定厚度的PET薄膜上涂布一層干膜厚度不低于1um的離型涂料；步驟2、通過PVD法或者離子濺射法在薄膜涂層上鍍上一層純度≥99％的銅，形成鍍銅膜，膜厚在之間；步驟3、將鍍銅膜浸入一定質(zhì)量的溶劑中，離型涂層被溶解后，鍍銅層則從薄膜上脫落下來，分散在溶劑中；步驟4、將銅膜懸浮液進行濃縮，得到固含量不低于50％的銅膏。本發(fā)明直接制得金色金屬顏料層，可以**限度的兼顧色彩和鋁銀漿的光亮度(鏡面效果)，使客戶使用方便，省去調(diào)色環(huán)節(jié)，也可以降低部分成本，用該工藝制備的鏡面金漿具有明艷的金色效果。

高速研磨分散機，研磨分散機是一款集研磨和分散一體化的設備，是一項新的技術(shù)革新。研磨分散機是將膠體磨（錐體磨）+高剪切分散機一體化的設備，先研磨后分散，物料研磨后又瞬間進行分散，避免了物料的二次團聚。

1、超強的剪切力，CMD2000系列研磨分散機轉(zhuǎn)速高達14000rpm，線速度為44m/s，是普通設備的4-5倍。

2、高精密度的定轉(zhuǎn)子，超細研磨分散機的定轉(zhuǎn)子分為兩級，一級為膠體磨磨頭，采用三級錯齒結(jié)構(gòu)，磨頭的溝槽的深度角度都符合流體力學的設計。第二級是分散頭，IKN分散頭有六種不同的規(guī)格，從粗到細，越來越密，分散效果佳。

3、機械密封，超細的效果取決于高的轉(zhuǎn)速，而轉(zhuǎn)速越高機械密封的發(fā)熱量就會越大，設備的機械密封是否能夠耐的住這么高的轉(zhuǎn)速，國內(nèi)大多數(shù)廠家的機械密封是無法做到的，而IKN研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，并配有機封冷卻系統(tǒng)，可以承受超高的轉(zhuǎn)速，穩(wěn)定性高。

高速研磨分散機CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

研磨分散機的優(yōu)勢：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念，將先進的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設備結(jié)構(gòu)設計中，為設備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力

更可靠 采用整體式機械密封，**程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國際先進的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%