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催化劑研磨分散機(jī)，F(xiàn)CC催化劑研磨分散機(jī)，催化劑研磨機(jī)，催化劑分散機(jī)，**轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。此款研磨分散機(jī)比普通的分散機(jī)機(jī)的速度達(dá)到4-5倍以上，分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好。

催化劑研磨分散機(jī)，納米研磨分散設(shè)備   

研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂包覆住，以便達(dá)到顆粒完全被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中，范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。

                  

   
催化劑研磨分散機(jī)是由膠體磨、分散劑組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    
**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

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第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 

催化劑研磨分散機(jī)的應(yīng)用 
化學(xué)工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤(rùn)滑油、潤(rùn)滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、二氧化硅,鈦**,炭黑等。 
日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級(jí)化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
工業(yè)：各型糖漿、營(yíng)養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚**油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮等。 
建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
其它工業(yè)：塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質(zhì)環(huán)保的生產(chǎn)需要 。

催化劑研磨分散機(jī)的型號(hào)及規(guī)格