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液體藥劑中的藥物可以是固體、液體或氣體，在一定條件下分別以分子或離子、膠粒、顆粒、液滴狀態(tài)分散于液體分散媒（溶劑，下同）中組成分散體系。如分散相以分子或離子狀態(tài)分散于液體分散媒中者稱為溶液，其中溶質(zhì)分子量小的稱為低分子溶液；溶質(zhì)分子量大的（如蛋白質(zhì)類）則稱為高分子溶液。膠體溶液除了高分子溶液以外，還包括溶膠，它由多分子聚集體作為分散相的質(zhì)點，分散在液體分散媒中。如果以固體顆?；蛞旱畏稚⒂诜稚⒚街?，顆?；蛞旱闻c分散媒之間有相界面，前者稱為混懸液，后者稱為乳濁液。

若要制得沉降緩慢的混懸液，應減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。實驗工作中主要應用前兩種手段增加穩(wěn)定性。增稠劑可用糖漿、天然膠類、以及合成的可溶性纖維素類。

根據(jù)國家醫(yī)藥行業(yè)規(guī)定，一般混懸液的粒徑要求在15微米以下，目前大多數(shù)企業(yè)采用膠體磨對物料進行細化，上海IKN高剪切膠體磨**轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是普通膠體磨的4-5倍，細化能力更強，效率更快。

膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。CM2000整機采用**幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，**的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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高剪切膠體磨運行原理：

高剪切膠體磨在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。液料的*小細度可達0.5um。

IKN膠體磨結(jié)構(gòu)：三道磨碎區(qū)：一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)。

我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

CM2000系列混懸液膠體磨的特點：

1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

        

CM2000系列醫(yī)藥混懸液膠體磨設備選型表

注：流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%

IKN的CM2000系列和國內(nèi)設備相比

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