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小型高速研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

小型高速研磨分散機轉(zhuǎn)速**可達14000rpm，可24小時連續(xù)運行，定轉(zhuǎn)子精密度高達0.2-0.3的配合間隙。

研磨分散乳化技術(shù)發(fā)展至今已形成一門有別于傳統(tǒng)攪拌的新學科，并且還在不斷拓展它的使用領域及技術(shù)更新，被使用者美譽為“攪拌器的工業(yè)革命”。

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小型高速研磨分散機具體體積小、能耗低、操作簡便等諸多優(yōu)點，IKN小型分散機是與IKN生產(chǎn)型分散機參數(shù)上的一個縮放。通常情況下，在小型實驗室分散機高轉(zhuǎn)速運轉(zhuǎn)下，可以使實驗人員做出理想分散效果，但當物料投產(chǎn)時會發(fā)現(xiàn)，在生產(chǎn)過程中幾乎找不到能跟小型實驗室分散機配套的生產(chǎn)線在線式分散機。為此，IKN特別推出一款小型中小試分散機，當小試中試成功后無需調(diào)整工藝配方，可直接使用IKN生產(chǎn)型設備直接生產(chǎn)。

正常國產(chǎn)分散的轉(zhuǎn)速為3000rpm，而我們IKN通過底座下面的皮帶輪對設備進行了1:3的增速，使速度**可達9000rpm，正常的國產(chǎn)乳化機定轉(zhuǎn)子一般是304不銹鋼的，而我們IKN常規(guī)設備采用了316L不銹鋼的，如果客戶物料有特殊要求我們可以提供碳化鎢鈷、氧化鋯、陶瓷、哈氏合金等材料加工成的定轉(zhuǎn)子，以確保達到客戶的使用要求。 

小型研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%

與同類產(chǎn)品比較優(yōu)勢分析

CMD2000作為一個用于混合分散工藝的設備，其具有連續(xù)性操作特性，因此也稱為連續(xù)式超高速混合分散機，能夠很好的滿足大批量連續(xù)生產(chǎn)作業(yè)的要求，與傳統(tǒng)的批次式分散機相比具有很多優(yōu)勢：

（1）分散效率更高。批次式分散機在進行分散前往往還需要預攪拌，在其基礎上才能實現(xiàn)較好的分散混合的效果，因此所需時間更多，產(chǎn)量較少，適用于不連續(xù)生產(chǎn)或產(chǎn)量較小的情況；而連續(xù)式分散機則可以直接進行投料，更短時間內(nèi)能夠?qū)崿F(xiàn)混合液的粒徑要求，產(chǎn)量更大，效率高，適用于連續(xù)生產(chǎn)，產(chǎn)量大的情況。

（2）分散效果更好。批次式分散機安裝在罐體內(nèi)，物料與分散頭距離松散，工作時依靠強大的吸力迫使物料進入分散頭中，但分散過程中仍存在部分物料逃逸情況，混合分散后粒徑分布較寬，此外批次式分散機一般僅為單層分散頭結(jié)構(gòu)，不能實現(xiàn)足夠小的粒徑要求；而連續(xù)式分散機由于分散腔內(nèi)部設計空間更小。分散頭與物料接觸密切，剪切充分，分散腔內(nèi)設計成多層定轉(zhuǎn)子咬合結(jié)構(gòu)，優(yōu)化了粗細齒形結(jié)構(gòu)，可使混合分散后的粒徑分布較窄，效率更高。

（3）技術(shù)功能指標更好。CMD2000系列產(chǎn)品與批次式產(chǎn)品比較在相同的馬達情況下，轉(zhuǎn)速有明顯優(yōu)勢，具有相對節(jié)能高效的優(yōu)點，可以在更短時間內(nèi)處理更多符合要求的物料產(chǎn)品，能夠為大批量生產(chǎn)的企業(yè)實現(xiàn)生產(chǎn)過程中成本的降低。

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