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高分子復合型陶瓷漿料研磨分散機，瓷隔膜漿料專用設(shè)備，氧化鋁陶瓷隔膜專用設(shè)備，二氧化硅陶瓷隔膜專用設(shè)備，凹凸棒陶瓷隔膜專用設(shè)備有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

目前我國墻地磚生產(chǎn)通常采用濕法工藝，即陶瓷原料先球磨成泥漿，再噴霧干燥成粉料，這個過程所消耗的能量約占生產(chǎn)總能耗的一半，因此，提高原料細磨效率和降低噴霧干燥塔中泥漿含水率對陶瓷廠的節(jié)能降耗和生產(chǎn)效率的提高有著重要的現(xiàn)實意義。陶瓷原料的球磨是一個高能耗、低效率的工藝過程，通過調(diào)整球磨介質(zhì)、球磨機內(nèi)襯和料球水比例等操作可提高球磨效率，但其效果有限，且增加磨材的費用。

陶瓷隔膜的原料一般為氧化鋁、二氧化硅、凹凸棒等，將超細氧化鋁粉體分散到液體（水或者溶劑）中，形成陶瓷隔膜漿料，然后采用IKN研磨分散機進行研磨分散，解決團聚問題。相對于傳統(tǒng)設(shè)備，效率更高，效果更好。砂磨機一般細度沒有問題，但難以分散；高速分散機或雙行星攪拌機分散效果還可以，但細度不夠，并且效率較低。而IKN研磨分散機合理的解決了這些問題，成為陶瓷隔膜漿料專用設(shè)備。目前國內(nèi)許多廠家在用我司設(shè)備，如滄州、東莞、BYD，江蘇等，陶瓷隔膜漿料的隔膜效果，一般取決于隔膜漿料的粒徑，粒徑越小隔膜效果越好。陶瓷隔膜漿料一般為氧化鋁或者納米級二氧化硅，分散到水中或者溶劑當中，難以分散，容易團聚。傳統(tǒng)高速分散機或者砂磨機很難解決這種問題，而上海依肯研磨式分散機很好的解決了這一難題。

上海依肯zui新研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

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 高分子復合型陶瓷漿料研磨分散機，瓷隔膜漿料專用設(shè)備，氧化鋁陶瓷隔膜專用設(shè)備，二氧化硅陶瓷隔膜專用設(shè)備，凹凸棒陶瓷隔膜專用設(shè)備

上海依肯zui新研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

研磨分散機的優(yōu)勢：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念，將先進的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中，為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，**程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國際先進的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

研磨分散機的應用領(lǐng)域：

1、精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散

2、石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化

3、農(nóng)藥化肥 、化肥、農(nóng)藥乳化、農(nóng)藥助劑、農(nóng)藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復合肥、乳油濕性粉劑

4、生物醫(yī)藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質(zhì)分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣

5、日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精

6、食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末

7、涂料油墨、內(nèi)外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土

8、造紙工業(yè)、紙漿、膠黏劑、松香分散、碳酸鈣、填料助劑、顏料混合、樹脂乳化

9、環(huán)境保護、廢水、污水處理、改質(zhì)、回收利用

10、     其它：造紙、陶瓷泥釉、除銹劑、滑石粉

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