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復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司

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2025飛納電鏡選型指南--打造高效實(shí)驗(yàn)室,科研儀器投資物超所值的終極寶典!

2025飛納電鏡選型指南--打造高效實(shí)驗(yàn)室,科研儀器投資物超所值的終極寶典!
復(fù)納科技  2025-01-09  |  閱讀:37

飛納 (Phenom) 源自 FEI,誕生于荷蘭 “發(fā)明之城” 埃因霍溫,以 “任何人都可用的電鏡” 聞名于世,現(xiàn)已成為臺(tái)式掃描電鏡第一品牌。讓您的掃描電鏡測(cè)試變得簡(jiǎn)單高效是我們一直以來的目標(biāo)。(??飛納電鏡 -- 從飛利浦到賽默飛,是最“老”的電鏡,也是最“新”的電鏡?。?/p>


飛納目前在中國(guó)擁有 2000 多名用戶,包括數(shù)百家高校;中科院等各類研究院所;政府機(jī)構(gòu);以及新能源、生命科學(xué)等企業(yè)單位。研究領(lǐng)域涉及金屬及合金,電池,地質(zhì),考古,高分子,靜電紡絲,陶瓷,復(fù)合材料,生物醫(yī)學(xué),微生物等。


制樣簡(jiǎn)單 無(wú)需噴金即可觀察不導(dǎo)電樣品


01

裝樣


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非 Phenom XL 系列


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Phenom XL 系列 


02

載樣


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非 Phenom XL 系列抽真空 15 秒


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Phenom XL 系列抽真空 20 秒  


03

成像僅三步即可獲得高質(zhì)量圖像


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從光鏡導(dǎo)航快速切換至 SEM 圖像


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飛納臺(tái)式掃描電鏡

  • 相較傳統(tǒng)電鏡,成像速度提升 10 倍:15s 抽真空,30s 成像

  • 獨(dú)家采用超長(zhǎng)壽命的 CeB6 燈絲,平均 3 年以上更換燈絲

  • 不挑安裝環(huán)境,完全防震防磁,放置高樓層也無(wú)需擔(dān)心

  • 原廠集成能譜 EDS,一分鐘給出 SEM 和元素分析 2 個(gè)結(jié)果

  • 讓精密儀器無(wú)后顧之憂,全球 5000+ 用戶選擇

  • 最“老”的電鏡,也是最“新”的電鏡!

  • 自動(dòng)化掃描電鏡,讓測(cè)試效率翻倍


01. 新品速遞


2024 年,飛納電鏡推出一系列新技術(shù)-- ChemiSEM 彩色成像軟件,ChemiPhase 物相分析軟件和 Phenom MAPS 大面積能譜拼圖軟件等最新技術(shù),不僅打破大家對(duì)于掃描電鏡圖片是黑白的傳統(tǒng)認(rèn)知,而且將掃描電鏡成像分析帶入一個(gè)全新的高度。


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ChemiSEM 技術(shù)

EDS 能譜儀在電鏡工作時(shí)始終在后臺(tái)收集成分?jǐn)?shù)據(jù),利用算法同時(shí)處理 BSE 和 EDS 信號(hào),實(shí)時(shí)顯示樣品的形態(tài)和定量元素分布結(jié)果。簡(jiǎn)化對(duì)金屬、陶瓷、電池、涂層和軟材料等多種材料的復(fù)雜分析。


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ChemiPhase 物相分析統(tǒng)計(jì)分析 X 射線面掃成像數(shù)據(jù),并按照成分組成的特異性進(jìn)行相的劃分,提取出特征相分布。同時(shí)具有相歸類,計(jì)算相比例等功能,非常適用于合金、陶瓷、礦物分析等領(lǐng)域的測(cè)試分析。


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Phenom MAPS 系統(tǒng)

Phenom MAPS 提供的是一個(gè)涵蓋所有樣品信息的數(shù)碼存檔,從全面(宏觀)到具體(微觀)無(wú)所不包,徹底變革了傳統(tǒng)掃描電鏡的分析與數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模式。并且,多圖層數(shù)據(jù)可以包含能譜。


此外,飛納電鏡還為大家?guī)砑捎谂_(tái)式掃描電鏡的 AFM(原子力顯微鏡)方案 —— Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機(jī),實(shí)現(xiàn)在同一系統(tǒng)中對(duì)樣品進(jìn)行多模態(tài)(SEM 及 AFM 形貌、元素、機(jī)械、電學(xué)、磁學(xué))的關(guān)聯(lián)分析。


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Phenom AFM-SEM 在樣品分析和先進(jìn)的 3D 相關(guān)成像方面為用戶提供了前所未有的可能性,具有無(wú)與倫比的圖像對(duì)齊精度。多功能性證明了其在材料科學(xué)、納米技術(shù)、半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池開發(fā)、生命科學(xué)和其他研究領(lǐng)域以及工業(yè)應(yīng)用等各個(gè)領(lǐng)域的適用性。


02. 電鏡選型


系列一 | 臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,完全防震,在臺(tái)式機(jī)身上獲得接近大型場(chǎng)發(fā)射的性能。優(yōu)秀的低電壓成像能力,可減輕電子束對(duì)樣品的損傷和穿透,最大程度還原樣品的真實(shí)形貌。延續(xù)電鏡能譜一體化設(shè)計(jì),升級(jí)的快速面掃可以即時(shí)顯示所選元素的分布情況,實(shí)時(shí)能譜分析功能大幅提升了檢測(cè)效率。



產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍

  • 分辨率最高的臺(tái)式電鏡

  • 可選 STEM 模式:BF、DF、HAADF 像

  • 卓越的低電壓成像

  • 電鏡能譜一體化設(shè)計(jì)

  • 不受震動(dòng)、磁場(chǎng)等環(huán)境因素干擾


型號(hào)推薦


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Pharos STEM 掃描透射電鏡

分辨率:優(yōu)于 1nm

成像模式:BF、DF、HAADF


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Pharos G2 臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

分辨率:優(yōu)于 1.5 nm

放大倍數(shù):2,000,000 X


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Nano G2 臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

分辨率:優(yōu)于 2.5 nm

放大倍數(shù):1,000,000 X


系列二 | 六硼化鈰燈絲(CeB6)掃描電鏡


全新一代六硼化鈰(CeB6)晶體燈絲掃描電鏡,臺(tái)式設(shè)計(jì),完全防震。操作便捷,適用不同經(jīng)驗(yàn)級(jí)別的用戶,培訓(xùn) 30 分鐘即可上手操作。支持拓展各種特色功能。


產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 獨(dú)家采用 CeB6 燈絲,高分辨成像,使用時(shí)長(zhǎng)不低于 1500h

  • 成像最快的掃描電鏡:15s 抽真空,30s 成像

  • 電鏡能譜一體化設(shè)計(jì)

  • 不受震動(dòng)、磁場(chǎng)等環(huán)境因素干擾


型號(hào)推薦


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Phenom XL 大樣品室卓越版

  • AI 智能化全自動(dòng)掃描電鏡:Maps 地圖式多模態(tài)、多維度自動(dòng)掃描拼圖及關(guān)聯(lián)系統(tǒng)

  • 100x100mm 大樣品倉(cāng)室:36 個(gè)樣品位、超越落地式電鏡的樣品可視區(qū)域(100*100 mm);可選配原位拉伸/壓縮樣品臺(tái)

  • 完全集成能譜 EDS(選配):原廠集成能譜探測(cè)器,實(shí)時(shí)能譜面掃,物相分析,大面積能譜拼圖

  • 開放編程接口的自動(dòng)化掃描電鏡:支持自定義腳本編程,自定義專屬您的SEM工作流,可自定義自動(dòng)化拍照、自動(dòng)形成數(shù)據(jù)報(bào)告等


高性價(jià)比系列推薦


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Phenom ProX

放大倍數(shù):350,000 X

分辨率:優(yōu)于 6 nm

探測(cè)器:BSD,SED(可選),EDS



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Phenom Pro

放大倍數(shù):350,000 X

分辨率:優(yōu)于 6 nm

探測(cè)器:BSD,SED(可選)


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Phenom Pure

放大倍數(shù):175,000 X

分辨率:優(yōu)于 10 nm

探測(cè)器:BSD,SED(可選)


系列三 | ParticleX 全自動(dòng)掃描電鏡

ParticleX 以掃描電鏡和能譜儀為基礎(chǔ),結(jié)合自動(dòng)控制系統(tǒng)以及強(qiáng)大的數(shù)據(jù)庫(kù)系統(tǒng),可以全自動(dòng)對(duì)雜質(zhì)顆粒進(jìn)行快速識(shí)別、分析和分類統(tǒng)計(jì),為客戶的研發(fā)以及生產(chǎn)提供快速、準(zhǔn)確和可靠的定量數(shù)據(jù)支持。


型號(hào)推薦


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ParticleX Battery

全自動(dòng)鋰電清潔度分析

Cu、Zn 異物及鐵磁性異物檢測(cè)


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ParticleX TC

全自動(dòng)汽車清潔度檢測(cè)

符合 ISO16232,VDA19 標(biāo)準(zhǔn)


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ParticleX Steel

全自動(dòng)鋼鐵夾雜物分析

一體化鋼中非金屬夾雜物分析


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ParticleX

全自動(dòng)顆粒統(tǒng)計(jì)分析

顆粒分析及過程控制的工業(yè)級(jí)解決方案


系列四 | 刑偵司法鑒定專用掃描電鏡


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Phenom GSR 槍擊殘留物分析

在槍支犯罪事件中,槍擊殘留物(GSR)的分析發(fā)揮著重要的作用。GSR 分析技術(shù)首先基于掃描電子顯微鏡(SEM)的背散射成像,用來掃描樣品和發(fā)現(xiàn) “可疑” 的 GSR 顆粒。一旦發(fā)現(xiàn)可疑的顆粒,使用能譜(EDS)識(shí)別該顆粒的元素。最常見的搜索元素為 Pb,Sb 和 Ba。無(wú)鉛底火的檢測(cè),例如 Ti 和 Zn 也可作為搜索條件進(jìn)行搜索。


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Diatom AI 自動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng)(電鏡)

DiatomAI? 利用人工智能的技術(shù),賦能法醫(yī)硅藻檢驗(yàn)系統(tǒng),配合 DiatomScope? ,實(shí)現(xiàn)了掃描和檢測(cè)的全自動(dòng)化。它是目前市面上最可靠、最高效、自動(dòng)化程度最高的硅藻檢測(cè)解決方案,幫助法醫(yī)在檢測(cè)過程中實(shí)現(xiàn)硅藻的全自動(dòng)檢測(cè),識(shí)別過程全程無(wú)需人工參與。大大縮短了檢測(cè)時(shí)間,提升工作效率。


03. SEM 樣品制備

SEMPREP SMART 配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔。離子加工可以改進(jìn)和清潔機(jī)械拋光的 SEM 樣品,并為 EBSD 分析制備無(wú)損表面。該設(shè)備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質(zhì)量的樣品,例如在半導(dǎo)體測(cè)試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實(shí)現(xiàn)出色的效果。


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產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 氬離子束無(wú)應(yīng)力處理樣品

  • 定位精準(zhǔn):可實(shí)現(xiàn)± 1微米

  • 離子槍能量最高:0-16KV

  • 超大樣品腔室:可容納直徑 50mm 樣品

  • 獨(dú)家制冷設(shè)計(jì):液氮 LN2 制冷

  • 可選配真空轉(zhuǎn)移功能


應(yīng)用案例|電子器件失效分析

在對(duì)焊接部位的焊接情況進(jìn)行分析時(shí),需要觀測(cè)該部位剖面的合金相分布情況,此時(shí)需要用到截面切削的制樣設(shè)備--離子研磨儀,進(jìn)行無(wú)應(yīng)力樣品切削制備后,使用飛納電鏡進(jìn)一步分析焊接情況。


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1,000X (Mix模式,離子研磨后)


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3,000X (Mix 模式,離子研磨后)


進(jìn)一步結(jié)合 EDS 能譜面掃分析可知:銀-錫膏和銅面結(jié)合,界面有銅-錫為主合金化晶粒生長(zhǎng),銅引腳有鍍鎳層,并在內(nèi)部發(fā)現(xiàn)有大量的鐵富集相夾雜,近銅界面發(fā)現(xiàn)有氣孔存在。


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焊錫截面 EDS 能譜面掃結(jié)果


使用 SEMPREP SMART 處理后的 SEM 圖:


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氧化鋁陶瓷材料


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半導(dǎo)體失效分析


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鋰電池正極極片

虛擬號(hào)將在 秒后失效

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