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賽默飛世爾科技(中國)有限公司
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產(chǎn)品詳情
EscaLab QXi X射線光電子能譜儀
EscaLab QXi X射線光電子能譜儀的圖片
參考報(bào)價(jià):
面議
品牌:
賽默飛
關(guān)注度:
2267
樣本:
暫無
型號:
EscaLab QXi X射線光電子能譜儀
產(chǎn)地:
英國
信息完整度:
典型用戶:
暫無
儀器原理:
其他
索取資料及報(bào)價(jià)
認(rèn)證信息
高級會(huì)員 第 2
名 稱:賽默飛世爾科技(中國)有限公司
認(rèn) 證:工商信息已核實(shí)
訪問量:272113
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公司品牌
品牌傳達(dá)企業(yè)理念
產(chǎn)品簡介

Thermo Scientific? ESCALAB? QXi  X 射線光電子能譜儀(XPS)是ESCALAB 系列產(chǎn)品。作為可擴(kuò)展的多技術(shù)表面分析平臺,ESCALAB QXi有著**的靈活性和完備的專業(yè)配置選項(xiàng)。匯聚前沿技術(shù),打造出高效便捷的軟件系統(tǒng),高性能的硬件配置,高效的生產(chǎn)力。強(qiáng)大的Thermo ScientificTM AvantageTM  軟件系統(tǒng)集系統(tǒng)控制、設(shè)備狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控與調(diào)節(jié)、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理、報(bào)告生成等多功能于一身,操作便捷,快速高效。


**的分析性能

●表面元素定性、定量分析

     能量分析器設(shè)計(jì)和雙晶微聚焦單色化X射線源結(jié)合,實(shí)現(xiàn)了**的能量分辨率

●快速高分辨平行成像

     化學(xué)成像: 空間分辨率優(yōu)于1um

     回溯成譜: 回溯區(qū)域優(yōu)于6um

●無需背底修正探測器

     電子倍增器和電阻陽極探測器的雙探測器設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)高性能的XPS采譜和高空間分辨的XPS成像的需求。

     空間連續(xù)的電阻陽極探測器創(chuàng)新技術(shù),使得XPI成像分辨率達(dá)1um,同時(shí)所得數(shù)據(jù)無探測器背底特征,無需背底校正,直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像結(jié)果。

●微聚焦單色源

     分析尺寸在20μm~900μm之間連續(xù)可調(diào)

    **的靈敏度和能量分辨率

     提供不少于20個(gè)靶材工作點(diǎn),確保儀器終身使用過程中陽極靶無需更換

●自動(dòng)化高效離子剖析源

     新型Ar離子團(tuán)簇與傳統(tǒng)單粒子離子源相結(jié)合,用于各類材料的深度剖析研究

●高精確度角分辨XPS

     軟件控制分析位置和角度,確保數(shù)據(jù)的精確性和重復(fù)性

     全套的ARXPS數(shù)據(jù)處理工具,可對納米尺度的多層結(jié)構(gòu)器件進(jìn)行層厚計(jì)算

●一鍵式荷電補(bǔ)償

     配有雙束電荷中和系統(tǒng),可以根據(jù)實(shí)際樣品的需要獨(dú)立控制開啟。

    適用于所有不導(dǎo)電樣品及粗糙表面的荷電中和

●強(qiáng)大的Avantage分析軟件

     全數(shù)字化儀器控制

     系統(tǒng)軟件可視化操作

     全套XPS標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)圖庫以及化合物結(jié)構(gòu)鑒定數(shù)據(jù)庫

     自定義數(shù)據(jù)采集到報(bào)告生成模式


操作簡便

●高度自動(dòng)化

     分析區(qū)域和角度分辨可選

     自動(dòng)化氣體調(diào)節(jié)和真空控制

●隨時(shí)校準(zhǔn)

     能量標(biāo)尺和儀器功函數(shù)的校準(zhǔn)

     離子槍定位和離子束聚焦

●鼠標(biāo)點(diǎn)擊式樣品導(dǎo)航

     實(shí)時(shí)顯示分析位置

     高照明強(qiáng)度、強(qiáng)度可調(diào)


設(shè)計(jì)靈活

●ISS、ARXPS與REELS為標(biāo)準(zhǔn)配置

●多功能進(jìn)樣室為標(biāo)準(zhǔn)配置

●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可選

●可選的樣品預(yù)處理附件,包括:

     樣品制備臺、晶體清潔器、樣品刮片器

     樣品加熱/冷卻裝置

     濺射清潔離子槍

     蒸發(fā)器

     高壓反應(yīng)室



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