多弧離子鍍膜設備
多弧離子鍍膜機由鍍膜室、N個電弧靶、弧電源,真空獲得系統(tǒng)、旋轉工件架、管狀加熱器、氣路系統(tǒng)、水路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。
| 多弧離子鍍膜設備應用
多弧離子鍍膜設備參數(shù)
艙體尺寸:1000×1200、1150×1200、1200×1300、1400×1300、1600×1300 電源類型:直流電源、中頻電源、電弧電源、燈絲電源、活化電源、脈沖偏壓電源 多弧靶:多弧靶5個或18個,1個或2個柱弧靶 孿生靶:中頻孿生柱靶或平面靶1-4對 艙體結構:立式前開門結構(雙層水套或水槽式冷卻)、后置抽氣系統(tǒng) 真空系統(tǒng):滑閥泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(可選裝:分子泵、深冷泵、深冷系統(tǒng)) 加熱系統(tǒng):常溫至350度可調可控(PID控溫),不銹鋼加熱管加熱 氣路系統(tǒng):1-4路MFC 極限真空:6×10-4pa(空載) 抽氣時間:空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘 保壓率:1h≤0.6pa 旋轉方式:上旋轉或下旋轉+公自轉變頻無級可控可調,0-20轉/分 控制方式:全自動、觸摸屏+PLC
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