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立式化學(xué)氣相沉積爐
立式化學(xué)氣相沉積爐

參考價(jià)格

100-150萬(wàn)元

型號(hào)

VCVD

品牌

頂立科技

產(chǎn)地

湖南

樣本

暫無(wú)
湖南頂立科技股份有限公司

金牌會(huì)員

|

第12年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 非金屬電熱元件:

    其他
  • 金屬電熱元件:

    鎳銅絲
  • 燒結(jié)氣氛:

    真空
  • 溫控精度:

    ±5
  • 最高溫度:

    1500
  • 額定溫度:

    1500
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 立式化學(xué)氣相沉積爐(沉積炭)可用于以碳?xì)錃怏w(如C3H8、CH4等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。


技術(shù)特征

☆ 采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫,溫度均勻性好;

☆ 采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);
☆ 采用多通道沉積氣路,流場(chǎng)均勻,無(wú)沉積死角,沉積效果好;
☆ 對(duì)炭沉積過(guò)程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效處理。


產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號(hào)VCVD-0305-CVCVD-0608-CVCVD-0812-CVCVD-1120-CVCVD-1320-CVCVD-1520-C
工作區(qū)尺寸D×H(mm)Φ300×500Φ600×800Φ800×1200Φ1100×2000Φ1300×2000Φ1500×2000
**溫度(℃)150015001500150015001500
溫度均勻性(℃)±5/±10±7.5/±10±7.5/±15±10/±15±10/±15±10/±20
極限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-1001-100
壓升率(Pa/h)0.670.670.670.670.670.67
加熱方式電阻/感應(yīng)電阻/感應(yīng)電阻/感應(yīng)電阻/感應(yīng)電阻/感應(yīng)電阻/感應(yīng)


參數(shù)\型號(hào)VCVD-1822-CVCVD-2032-CVCVD-2632-CVCVD-3338-CVCVD-3344-C
工作區(qū)尺寸D×H(mm)Φ1800×2200Φ2000×3200Φ2600×3200Φ3300×3800Φ3300×4400
**溫度(℃)15001500150015001500
溫度均勻性(℃)±15±15±15±20±20
極限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-100
壓升率(Pa/h)0.670.670.670.670.67
加熱方式電阻電阻電阻電阻電阻

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整,不作為驗(yàn)收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。



配置選擇

☆ 爐門:絲桿升降/液壓升降/手動(dòng)升降;旋轉(zhuǎn)移開/平行移開(大尺寸爐門);手動(dòng)鎖緊/自動(dòng)鎖圈鎖緊 

☆ 爐殼:全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
☆ 爐膽:軟碳?xì)?軟石墨氈/硬質(zhì)復(fù)合氈/CFC
☆ 加熱器、馬弗:等靜壓石墨/模壓三高石墨/細(xì)顆粒石墨
☆ 工藝氣路系統(tǒng):體積/質(zhì)量流量計(jì);手動(dòng)閥/自動(dòng)閥;進(jìn)口/國(guó)產(chǎn)
☆ 熱電偶:K分度號(hào)/N分度號(hào)/C分度號(hào)/S分度號(hào)

 


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用戶評(píng)論

產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
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