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牛津儀器Etch刻蝕工藝
牛津儀器Etch刻蝕工藝

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型號

牛津儀器Etch刻蝕工藝

品牌

牛津

產(chǎn)地

英國

樣本

暫無
牛津儀器科技(上海)有限公司

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有了在刻蝕工藝發(fā)展上無比廣泛的經(jīng)驗和我們應(yīng)用工程師的支持, 牛津儀器向世界范圍內(nèi)的生產(chǎn)商和研發(fā)者提供刻蝕工藝解決方案的經(jīng)驗向我們提供了強大的刻蝕工藝庫和刻蝕工藝能力。

請與我們聯(lián)系,討論您的特定需求,我們專業(yè)的銷售和應(yīng)用工作人員將很高興幫助您選擇合適的刻蝕工藝和工具,以滿足您的需求。


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化合物半導(dǎo)體

刻蝕AlGaN/GaN/AlN—刻蝕氮化鋁鎵

深度刻蝕GaP—感應(yīng)耦合等離子體刻蝕磷化鎵

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刻蝕ZnSe—反應(yīng)離子刻蝕硒化鋅

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刻蝕(Ta2O5)—五氧化二鉭

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刻蝕PZT—刻蝕鋯鈦酸鉛

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刻蝕SiC—刻蝕碳化硅

 

金屬

刻蝕Al—感應(yīng)耦合等離子體刻蝕鋁

濺射刻蝕Au—濺射刻蝕金

刻蝕Cr—刻蝕鉻

Cu刻蝕(反應(yīng)離子刻蝕)—刻蝕銅

刻蝕Mo—刻蝕鉬

刻蝕Nb(反應(yīng)離子刻蝕,感應(yīng)耦合等離子體)—刻蝕鈮

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刻蝕Ti—超大刻蝕深度

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TiN的各向異性刻蝕—刻蝕氮化鈦

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有機物

刻蝕PMMA—刻蝕聚甲基丙烯酸甲酯

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刻蝕金剛石—金剛石的刻蝕

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硅烷化光刻膠的干法顯影(感應(yīng)耦合等離子體-反應(yīng)離子刻蝕)—硅烷化光刻膠

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