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產(chǎn)品概述

當(dāng)一束光入射到薄膜表面時(shí)，薄膜上表面和下表面的反射光會發(fā)生干涉，干涉的發(fā)生與薄膜厚度及光學(xué)常數(shù)等有關(guān)，反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。

反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)。

測量范圍: 1 nm - 1 mm

波長范圍: 200 nm -8000 nm

光斑尺寸:2mum -3 um

產(chǎn)品特點(diǎn)：

a. 高的測量精度：0.01nm或0.01%

b. 準(zhǔn)確度：1nm或0.2%

c. 穩(wěn)定性：0.02nm或0.02%

d. 強(qiáng)大的軟件材料庫，包含500多種材料的光學(xué)常數(shù)

e. 通過Modbus TCP或OPC協(xié)議，與其他設(shè)備聯(lián)用

適用于實(shí)時(shí)在線測量，多層測量，非均勻涂層， 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy， Tauc-Lorentz， Cody-Lorentz， EMA等

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs， InGaAs，CdTe， CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

標(biāo)準(zhǔn)配置中包含：

1. 主機(jī)(光譜儀，光源，電線)

2. 反射光纖

3. 樣品臺及光纖適配器

4. TFCompanion軟件

5. 校準(zhǔn)套裝

6. 測試樣品，200nm晶圓

多種型號可選，每個(gè)型號對應(yīng)不同的測量范圍：

測量n和k值，其厚度范圍需在25納米和5微米之間

廣泛的應(yīng)用于各種工業(yè)生產(chǎn)及工藝監(jiān)控中：

半導(dǎo)體晶圓，薄膜太陽能電池，液晶平板，觸摸屛，光學(xué)鍍膜，聚合物薄膜等

半導(dǎo)體制造：· 光刻膠 · 氧化物 · 氮化物

光學(xué)鍍膜：· 硬涂層 · 抗反射涂層 · 濾波片

生物醫(yī)學(xué)：· 聚對二甲苯 · 生物膜厚度 · 硝化纖維