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Nanovea ST400三維表面形貌儀
Nanovea ST400三維表面形貌儀

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美國(guó)

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上海艾堯科學(xué)儀器有限公司

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ST400型三維表面形貌儀是一款多功能的三維形貌儀,采用國(guó)際**的白光共聚焦技術(shù),可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試,具有測(cè)量精度高,速度快,重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn),該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品,并具有多種選項(xiàng),包含360°旋轉(zhuǎn)工作臺(tái),原子力顯微鏡模塊,光學(xué)顯微鏡,特征區(qū)域定位等多種功能模塊。

產(chǎn)品特性

采用白光共聚焦色差技術(shù),可獲得納米級(jí)的分辨率

測(cè)量具有非破壞性,測(cè)量速度快,精確度高

測(cè)量范圍廣,可測(cè)透明、金屬材料,半透明、高漫反射,低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…);

尤其適合測(cè)量高坡度高曲折度的材料表面

不受樣品反射率的影響

不受環(huán)境光的影響

測(cè)量簡(jiǎn)單,樣品無(wú)需特殊處理

Z方向,測(cè)量范圍大:為27mm

主要技術(shù)參數(shù)

掃描范圍:150mm×150mm(**可選600mm*600mm)

掃描步長(zhǎng):0.1μm

掃描速度:20mm/s

Z方向測(cè)量范圍:27mm

方向測(cè)量分辨率:2nm

產(chǎn)品應(yīng)用

MEMS、半導(dǎo)體材料、太陽(yáng)能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料,光學(xué)元件、陶瓷和先進(jìn)材料的研發(fā)。

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