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*近,德國LEICA推出了新一代薄膜測厚儀DRM1000以應(yīng)對微電子,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的新高潮。該膜厚儀的先進(jìn)性在于:
--*小光斑可達(dá)1微米
--既使用顯微光譜反射法又能使用白光干涉法進(jìn)行測量半導(dǎo)體薄膜厚度
--德國LEICA頂尖的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)
--自動建模和海量光譜數(shù)據(jù)
德國LEICA DRM1000 顯微光譜薄膜測厚儀是對薄膜的反射光譜的干涉圖樣進(jìn)行分析來進(jìn)行膜厚測量,*小測量光斑可達(dá)1微米。該系統(tǒng)由德國LEICA DM4M,DM6M等顯微鏡和膜厚測量模塊組成,由于它的快速運算,使得它可高重復(fù)率進(jìn)行膜厚的光學(xué)測量以及對膜的相關(guān)計算。另外,它的新型自動建模功能:可為待測的樣品與光譜庫里的數(shù)據(jù)快速的比較,來自動建模。是真正適合半導(dǎo)體,液晶等微電子行業(yè)進(jìn)行在線膜厚檢測新型高端儀器。
LEICA DRM1000膜厚儀還可使用白光干涉和雙光干涉進(jìn)行膜厚測量。技術(shù)參數(shù):
測量方法:非接觸式
測量原理:反射光譜法
測量樣本大小:**為12 inch -300mm
測量范圍:500?~ 20?(Depends on Film Type) 選配干涉測量模塊時*小30?光斑尺寸:*小可達(dá)1微米
測量速度:300ms
準(zhǔn)確性: 1nm (典型:400nm Sio2/Si)
精確度:0.3nm (典型:400nm Sio2/Si)
光譜范圍: 450 – 920nm應(yīng)用領(lǐng)域:
半導(dǎo)體: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe...電解質(zhì): SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,...平板行業(yè):(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, Alq, ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide...光學(xué)涂層:: 減反射膜, Color Filters...太陽能電池 Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..)聚合物: PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR... Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk
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