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主要特點：
? 浸沒式熱場發(fā)射電子槍
提供高穩(wěn)定的電子束束流，與**光欄角控制透鏡配合獲得高分辨圖像.
? 電子束大電流高速分析
電子束**束流強度200nA
? 離子束大電流模式
加工速度很快
? 實時監(jiān)控加工過程
通過掃描電鏡圖像可以實時監(jiān)控加工過程，提高了內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析和獲得TEM用薄膜樣品的效率。
? 擴展性極強
大樣品臺**裝樣直徑50mm，并且可以同時安裝EDS， EBSD， and CLD等探頭
技術(shù)參數(shù)：
FIB
離子源：Ga（鎵）液態(tài)金屬離子源
保證分辨率： 5 nm 以下(加速電壓 30 kV)
加速電壓： 5 to 30 kV
放大倍數(shù)： x30 (廣域)
x100 - x300，000
**束流：30 nA
SEM
浸沒式熱場發(fā)射電子槍
保證分辨率： 1.2 nm (電壓 30 kV)
加速電壓： 0.2 to 30 kV
放大倍數(shù)：x50 - x1，000，000
**束流： 200 nA
樣品臺移動范圍： X:50mm ， Y:50mm ， Z:1.5～40mm ， T:－5～70° ， R:360°
暫無數(shù)據(jù)！
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