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用于制備多晶硅太陽電池的氮化硅涂層沉積設備 MVS
Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells
Throughput: >475 wafers/hr
SiNx uniformity: < ?5%
產率：>475硅片/小時。
氮化硅膜不均勻性：< 5%。
暫無數據！
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