熱絲薄膜沉積設備

MVSystems 公司設計，制造和提供各類單腔室和多腔室薄膜沉積設備。另外，根據(jù)用戶的需求，各種PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以單個制造，也可配備到現(xiàn)有的團簇型（星型）或是直線型沉積系統(tǒng)。MVSystems具有制造用于各類研發(fā)，中試以及小型生產設備的強大能力和豐富經驗，所生產的設備已成功地使用在全世界23個國家的大學，研究院所和公司。我們公司的工程部門可**限度地為用戶著想， 以使用戶們獲取他們*需要的且價格合適的設備。

作為設備銷售的一部分，我們還能向用戶保證薄膜半導體材料具有**光電子性能參數(shù)。這些材料包括非晶硅，納米硅（微晶硅），介質材料（比如氮化硅和氧化硅）和透明導電膜。

其他業(yè)務

MVSystems 擁有各類研發(fā)設施和技術人員，具備開發(fā)各種光電子薄膜技術的能力。

研發(fā): 可以為全球的大學，政府研究機構和公司提供服務。

代工服務: 使用計算機控制的大面積團簇型（星型）等離子輝光放電（PECVD）/濺射系統(tǒng)，MVSystems 公司可以為用戶提供如下各類薄膜材料和器件，包括：

• 非晶硅本征和摻雜(n+ and p+ 型)膜。

• 納米（或者微晶）硅 (本征和摻雜)膜。

• 介質材料(如SiNx， SiOx)。

• 透明導電薄膜 （如ITO，AZO）。

• 太陽電池，非晶硅薄膜晶體管，電子成像和存儲器件等。

研發(fā)設施: 在公司實驗室內配置了具有高度安全性的監(jiān)測系統(tǒng)用于監(jiān)控和處理各類危險有毒氣體，比如硅烷等。

(1) 大面積團簇型薄膜沉積系統(tǒng)：**襯底面積可達30厘米×40厘米，具有6個PECVD腔室（配有射頻，甚高頻電源以及具有脈沖調制功能）和1個雙靶位濺射系統(tǒng)（配有直流和射頻電源），以及多片倉位功能。整個操作可由電腦控制。

(2) 熱蒸發(fā)系統(tǒng)用于制作金屬電極。

(3) 太陽電池測試系統(tǒng)：配有符合AM1.5G光譜的氙燈光源?？捎糜跍y量電池的光暗I-V曲線和量子效率。也可用作測試各類半導體薄膜的光暗電導率以及γ參數(shù)。

(4) 電導率激活能測試系統(tǒng)。

(5) 紅外光譜測試儀。

(6) 紫外至紅外光的透射和反射測量儀，配置有積分球。

(7) 橢偏儀用于測量薄膜厚度和介電常數(shù)。

(8) 臺階儀用于測量薄膜厚度。

(9) 光發(fā)射譜儀用于實時監(jiān)控等離子體過程。

(10) 各種光源，濾波片，示波儀，顯微鏡以及其它實驗室通用儀器。