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全反射鏡：

多年以來，GKSS研究中心一直在為高達200電子伏特的XUV范圍內(nèi)的應(yīng)用領(lǐng)域以及自由電子激光（FEL）開發(fā)專用的光學(xué)器件。之所以有這項研究，是因為有關(guān)方面無法預(yù)測漢堡德國電子同步加速器（Desy）處的TESLA試驗設(shè)施所轄FEL產(chǎn)生的峰值脈沖強度。

50 cm的同步加速器光學(xué)器件：未涂敷和已涂敷的Si襯底

為避免輻射損傷，我們研究了吸收程度可能*低且具有高反射率的低原子數(shù)Z元素膜。下圖展示了碳層組成的全反射鏡的優(yōu)越性能。這種鏡子由GKSS用磁控管濺射法制備而成，其Si襯底上涂有35納米厚的單一碳層。該碳層在所關(guān)注的整個應(yīng)用范圍（50到250電子伏特）內(nèi)展現(xiàn)出了95%以上的良好反射率，這一數(shù)字與一種金剛石模擬層的**反射率相差無幾。我們所生產(chǎn)的鏡子長度可長達150 cm。

35納米厚的全反射碳鏡的反射率與能量的比較。為便于比較，我們用紅色曲線展示了一種理想的金剛石模擬層（ρ＝3.5 g/cm³）。

用于同步加速器的多條紋多層膜

Incoatec公司也生產(chǎn)適合您工作的優(yōu)化型多層光學(xué)器件。憑借我們在諸多材料方面的多年經(jīng)驗，一款適合您的光學(xué)器件并不只是夢想。我們目前擁有50多種不同的標靶材料，并擁有不同層組合的涂敷經(jīng)驗。由于相互擴散和界面粗化的存在，理論上的**材料組合在實際中并不總是能相得益彰，不過我們能夠為您找出**的可行之道。*后同樣重要的是我們的沉積技術(shù)精度不俗，而這種高精度正是現(xiàn)代多層同步加速器光學(xué)器件所必需的。下圖為一張透射電子顯微（TEM）照片。我們能在任何梯度下沉積均一性小于0.1%的均勻薄膜。

層間距為1.4納米、對數(shù)為500的某多層鏡Mo/B4C的TEM顯微照片

下圖展示了用于瑞士光源（Swiss Light Source）處斷層掃描射束線的多條紋光學(xué)器件。我們?yōu)榉瓷淠芰拷橛?/span>10到22千電子伏特的應(yīng)用領(lǐng)域生產(chǎn)了100層對和單一層厚為2納米的Ru/C多層器件。下圖中的第二種多層器件由單層厚度為1.5納米的W/Is組成，適用的能量范圍為22到45千電子伏特。這兩種多層器件之間的Si 111襯底也是一種反射元件。此光學(xué)元件的長度為30 cm。在沉積這些多層器件時，其單層厚度的沉積精度在±1%以下。

未涂敷的Si襯底，以及在反射斷層掃描射束線上反射諸多能量的已安裝多條紋多層光學(xué)器件。（照片由PSI-SLS的M. Stampanoni惠供）