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美國(guó)產(chǎn)Plasma Cleaning System
小型實(shí)驗(yàn)室等離子表面處理機(jī)
等離子表面處理機(jī)是一種非破壞性的表面處理設(shè)備,它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù),在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下,以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結(jié)構(gòu)的改變,從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗,在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵徹底抽走,其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí)。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì),所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗器既能加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,也能對(duì)樣品進(jìn)行消毒和殺菌。等離子清洗器現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。小型等離子清洗機(jī)以體積小、成本低、操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn)廣泛應(yīng)用于科研及小批量生產(chǎn)場(chǎng)合。
外部尺寸: W356mm x H540mm x D495mm 重量:24kg
耐用的焊接6061 T6鋁合金真空腔;
真空腔尺寸:W140mm x H89mm x D179mm
等離子發(fā)生器:功率 max.150w(可調(diào))頻率:50kHz
供氣:氣體流量控制器 0-25cc/min w/精密針形閥。
壓力測(cè)量:熱電偶真空計(jì) 0-1Torr.
電源:115VAC,15A 功率:400W 供氣:6mm連接件
控制器:PLC微電腦控制系統(tǒng)。鍵盤用戶界面,數(shù)字字母顯示器。方案工藝可以進(jìn)行自動(dòng)處理。
附件(可選件)
抽氣裝置:推薦型號(hào):5 CFM 2級(jí) 直驅(qū)真空油泵
氧氣發(fā)生器
附加第二氣體通道。附加第二氣體控制器,0-25cc/min
100w, 13.56Mhz可自動(dòng)調(diào)節(jié)射頻發(fā)生器
升級(jí)裝置:
PC /筆記本電腦的控制系統(tǒng):裝載有等離子蝕刻軟件的一臺(tái)筆記本電腦是包括全自動(dòng)系統(tǒng)操作,
流程排序,多配方存儲(chǔ),以及其他高級(jí)功能。
質(zhì)量流量控制器:附加質(zhì)量流量控制器也可提供。
功能:
對(duì)金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機(jī)污染物 (如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等)進(jìn)行超A A清洗。
改變某些材料表面的性能。
使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加強(qiáng)這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性。
清除金屬材料表面的氧化層。
對(duì)被清洗物進(jìn)行消毒、殺菌。
From the beginning, our developments have been driven by the needs of our customers."
Richard DeLarge: Founder,
PE成立于1980年,致力于提供電子行業(yè)用的等離子設(shè)備及相關(guān)服務(wù)。通過(guò)幾十年的發(fā)展,公司發(fā)展成為提供等離子設(shè)備方面的專家,可為客戶提供專業(yè)的產(chǎn)品和解決方案,先后為眾多知名企業(yè)提供等離子處理設(shè)備,如美國(guó)宇航局NASA, 美國(guó)波音Boeing,**的電子保安系統(tǒng)產(chǎn)品制造商美國(guó)霍尼韋爾Honeywell,美國(guó)摩托羅拉Moto, 德國(guó)拜耳Bayer,世界軍用飛機(jī)的領(lǐng)軍企業(yè)美國(guó)洛克希德馬丁Lockheed-Martin等等。
PE擁有多項(xiàng)***,在開(kāi)發(fā)和制造等離子設(shè)備方面有許多突破性創(chuàng)新,擁有等離子體技術(shù)和制造技術(shù)領(lǐng)域里尖端的技術(shù)。這些**技術(shù)的產(chǎn)品線是公司獨(dú)有的,生產(chǎn)的等離子設(shè)備是業(yè)界公認(rèn)的集清洗速度、完整均勻性、安全可靠性為一體的等離子處理設(shè)備。
專業(yè)溫控技術(shù)
在等離子體處理過(guò)程中,溫度是確保均勻性、有效性的一個(gè)重要參數(shù)。Plasma Etch生產(chǎn)的等離子設(shè)備具有可直接調(diào)節(jié)電極溫度的**技術(shù)。通過(guò)電腦程序的自動(dòng)控制可保證整個(gè)等離子處理過(guò)程中溫度的穩(wěn)定性。這種技術(shù)是成熟且高度可靠的,并可由操作者操作控制。
操作者可在系統(tǒng)控制范圍內(nèi)設(shè)置任何溫度并自動(dòng)保持該溫度,可在溫度范圍內(nèi)設(shè)置成**溫度來(lái)處理任何材料和基底,從而可以以*快的速度處理樣品。無(wú)需預(yù)熱或者預(yù)啟動(dòng)等離子設(shè)備就可以間歇的處理樣品或者不斷的重復(fù)處理過(guò)程。
**靜電屏蔽技術(shù)
我們與許多行業(yè)進(jìn)行合作并進(jìn)行大量的研究,許多公司采用我們具有**技術(shù)和特點(diǎn)的真空腔,真空腔采用航空級(jí)鋁合金材料,具有非常好的耐用性。研究表明,采用鋁合金作為腔體可以微調(diào)每個(gè)等離子處理過(guò)程直到**的均勻性。等離子處理過(guò)程控制不恰當(dāng)?shù)脑挄?huì)導(dǎo)致對(duì)樣品的損壞,均勻性欠佳導(dǎo)致某些地方燒焦、彎曲或者損壞樣品,對(duì)此我們改進(jìn)了設(shè)計(jì)。采用我們的**靜電屏蔽技術(shù)就可以使得等離子體高效且均勻在電極表面穿流而過(guò),這一技術(shù)大大降低了等離子處理過(guò)程中對(duì)樣品的損傷。該電磁屏蔽技術(shù)是Plasma Etch獨(dú)有的**技術(shù)。
系統(tǒng)控制軟件
PE生產(chǎn)的等離子設(shè)備和控制軟件的接口都是獨(dú)特的,軟件可以監(jiān)控和自動(dòng)控制處理進(jìn)程,如下:
1.創(chuàng)建等離子處理工藝流程
2.監(jiān)控和記錄處理數(shù)據(jù)
3.設(shè)置數(shù)據(jù)警報(bào)點(diǎn)
4.存儲(chǔ)過(guò)程數(shù)據(jù)
5.實(shí)時(shí)自動(dòng)監(jiān)測(cè)處理工藝
6.創(chuàng)建特定樣品的處理工藝流程
7.制定連續(xù)的處理任務(wù)
通過(guò)使用該控制軟件,可以精確的控制等離子處理過(guò)程的每一個(gè)環(huán)節(jié),并能夠從程序中刪除失誤操作。
更快地刻蝕速度
PE的等離子設(shè)備刻蝕速度是其他等離子設(shè)備的3倍以上。獨(dú)特的設(shè)計(jì)和**技術(shù),如溫控技術(shù)和靜電屏蔽的結(jié)合使我們能夠在等離子體處理上提供****的質(zhì)量與速度。
應(yīng)用領(lǐng)域
目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于:等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理,在真空電子、LED、太陽(yáng)能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
公司發(fā)展歷程
1980年初– 公司成立并生產(chǎn)首臺(tái)等離子系統(tǒng);1980年底- 為線路板企業(yè)提供等離子處理設(shè)備;1987年- 發(fā)明TRUE等離子控溫**技術(shù),獨(dú)立控制并能保持整個(gè)等離子處理過(guò)程中溫度的穩(wěn)定性;1988年– 公司擴(kuò)大搬遷至California, USA;1989年– 生產(chǎn)首臺(tái)電腦控制等離子處理設(shè)備;.1992年– ***電磁屏蔽技術(shù);.1994年– 生產(chǎn)PE-1000聯(lián)機(jī)等離子處理設(shè)備;1996年– 生產(chǎn)自動(dòng)機(jī)器人裝卸系統(tǒng);
1996年– 公司擴(kuò)大搬遷至Nevada, USA.1997年– 生產(chǎn)MK-III等離子盲鉆系統(tǒng);1998年– 生產(chǎn)TT-1 旋轉(zhuǎn)式等離子處理系統(tǒng);
2000年- 生產(chǎn)PE-2000R卷輪式/滾動(dòng)式等離子處理系統(tǒng);2003年– 改進(jìn)BT-1刻蝕機(jī);2004年– 增加PE-200和BT-1基于windows的控制軟件和觸屏功能2005年– 生產(chǎn)臺(tái)式PE-100;2010年–生產(chǎn)臺(tái)式PE-50;2012年– 研制不需要CF4操作的麥格納系列
暫無(wú)數(shù)據(jù)!
產(chǎn)品質(zhì)量
售后服務(wù)
易用性
性價(jià)比