美國(guó)EDAX能譜儀 美國(guó)EDAX跨國(guó)集團(tuán)是世界上*早生產(chǎn)能譜儀的廠家,隸屬AMETEK集團(tuán)公司材料分析部。自1962年成立以來(lái)就一直是國(guó)際上**的X-射線譜儀和電子背散射衍射/取向成像微觀分析系統(tǒng)的制造廠家,致力于發(fā)展先進(jìn)的材料成分與結(jié)構(gòu)儀分析技術(shù)和產(chǎn)品。
TEAM™ EDS X-射線顯微分析系統(tǒng)是一個(gè)智能化交互式的能譜分析系統(tǒng)。將能譜分析理論與專(zhuān)家的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)相結(jié)合,自動(dòng)地設(shè)置**工作條件或提出建議、警告,實(shí)現(xiàn)了以能譜專(zhuān)家的知識(shí)和經(jīng)驗(yàn)運(yùn)行,徹底改變做能譜的工作方式。EDAX能譜儀與市場(chǎng)上Joel、FEI、日本精工、日立等所有電鏡都可以匹配。
儀器簡(jiǎn)介:
能譜儀(EDS,Energy Dispersive Spectrometer)是用來(lái)對(duì)材料微區(qū)成分元素種類(lèi)與含量分析,配合掃描電子顯微鏡與透射電子顯微鏡的使用。EDS可以與EPMA,SEM,TEM等組合,其中SEM-EDS組合是應(yīng)用*廣的顯微分析儀器,EDS的發(fā)展,幾乎成為SEM的標(biāo)配。是微區(qū)成份分析的主要手段之一。
技術(shù)參數(shù):
Genesis Apollo X / XL(Standard SDD)
1. 探測(cè)器:
a.有效晶體面積:10mm2,30mm2
b.FET配置:集成于SDD芯片內(nèi)
c.分辨率:優(yōu)于127eV,分辨率測(cè)試條件:100,000CPS
d.技術(shù)特點(diǎn):可工作于更短的時(shí)間常數(shù)(AmpTime)或更高的計(jì)數(shù)率而分辨率不下降
適應(yīng)對(duì)象:幾乎所有SEM,鎢燈絲或場(chǎng)發(fā)射。性能良好,可以滿(mǎn)足所有常規(guī)分析需要,性?xún)r(jià)比高。
2. 數(shù)字脈沖處理電子學(xué) :這是能譜采集與數(shù)字化處理的核心,Genesis Apex采用專(zhuān)門(mén)為SDD能譜探測(cè)器設(shè)計(jì)的DPP III數(shù)字脈沖處理系統(tǒng),可處理的**輸入計(jì)數(shù)率從500,000CPS提高到> 1,000,000CPS,輸出計(jì)數(shù)率從100,000CPS提高到350,000CPS。
主要特點(diǎn):
1. **設(shè)計(jì)的探頭,能保證輕元素端有更好的分辨率。
2. 設(shè)計(jì)的DPP III數(shù)字脈沖處理系統(tǒng),可處理的**輸入計(jì)數(shù)率從500,000CPS提高到> 1,000,000CPS,輸出計(jì)數(shù)率從100,000CPS提高到350,000CPS。
3. 增強(qiáng)的Genesis 6 分析軟件:保留Genesis原來(lái)的特點(diǎn),如HPD可見(jiàn)峰剝離、SEC因子提高輕元素的定量分析精度、全譜面分布和元素偵探器(Element Detective)、ViP低真空分析校正等外,新增強(qiáng)的功能包括:
EXpert ID——元素識(shí)別的一個(gè)創(chuàng)新性的新標(biāo)準(zhǔn),她克服了傳統(tǒng)的“基于規(guī)則”的峰識(shí)別技術(shù)準(zhǔn)確識(shí)別重疊峰或弱小能譜峰的困難,運(yùn)用了譜線之間物理關(guān)聯(lián)的高級(jí)理念,同時(shí)結(jié)合傳統(tǒng)的規(guī)則邏輯算法,就象一個(gè)物理專(zhuān)家一樣幫助您進(jìn)行復(fù)雜的峰識(shí)別,從而確保Peak ID的準(zhǔn)確性。
SnapShot: 按照用戶(hù)自定義的時(shí)間間隔自動(dòng)采集能譜來(lái)研究電子束與試樣的相互作用;
自動(dòng)時(shí)間常數(shù)Auto:根據(jù)實(shí)驗(yàn)條件自動(dòng)選取*價(jià)時(shí)間常數(shù).