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儀器簡介：

納米壓印的技術(shù)與工藝特點，**性地設(shè)計和制備工作于低真空環(huán)境下，結(jié)合正負壓可控調(diào)節(jié)并利用壓縮空氣作為壓印驅(qū)動力的，通過壓力傳導(dǎo)裝置、緩沖與勻壓、壓力調(diào)節(jié)控制裝置等手段實現(xiàn)平穩(wěn)可靠可控的壓印過程，借助于多種靈活的自動調(diào)節(jié)裝置的巧妙設(shè)計與運用，實現(xiàn)壓印中的自動找平調(diào)控，以保證模板納米圖案均勻精確的大面積復(fù)制轉(zhuǎn)移。

技術(shù)參數(shù)：

YPL-NIL-SI400納米壓印系統(tǒng)：

溫度范圍從室溫到350攝氏度；

壓力范圍從0到20個PSI（在4英寸晶元上）；

紫外曝光系統(tǒng)；

真空范圍從1個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓到0.1帕；

水冷系統(tǒng)；

樣品尺寸直徑**4英寸；

PLC遠程控制，帶觸摸屏；

手動裝載樣品和模板；

自帶機器控制軟件；

在軟件控制下可實現(xiàn)自動增加和釋放壓力；

可定制更大樣品尺寸或更大壓力系統(tǒng)的納米壓印機。

YPL-NIL-SI400 NANOIMPRINT SYSTEM

*Thermal Imprinter

Temperature range of R.T. to 350℃

Pressure range of 0 to 20 atm

*UV exposure system

*Vacuum range of 1atm to 10-1 Pa

* Sealed Bellows

*Wafer/Mask Holders: maximum 4 inch dia. Samples: Smart Sample Holder for

irregular shaped samples and piece parts.

*Control electronics

*PLC control and Touch Screen

*Manual loading and unloading of wafers and masks

*Proprietary Machine Control Software

Including (A) SI400 nanoimprint system (B) training， Warranty， other， and (C) Options

主要特點：

該納米壓印機利用紫外曝光或者熱壓固化實現(xiàn)壓印圖案在壓印高分子膠層中的復(fù)制，并通過各項功能與過程參量的優(yōu)化與篩選，通過遠程PLC控制系統(tǒng)結(jié)合觸摸屏單元，實現(xiàn)納米壓印全過程的實時監(jiān)控與全自動化控制。