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RDB-BC-Cr品牌
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1、產品信息
貨號 | 厚度 | 純度（%） | 形貌 | 顏色 |
RDB-BC-Cr | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 灰色、銀色或金屬光澤 |
2、產品規(guī)格
定制
3、產品概述
鉻靶材通常用于制造光學薄膜、鍍膜材料、半導體器件和其他高科技領域的產品。它具有優(yōu)異的化學穩(wěn)定性、耐腐蝕性和高溫性能，因此在這些領域中得到廣泛應用。例如，鉻靶材可用于制造反射鏡、透鏡、光學濾波器、半導體器件等。此外，鉻靶材還可用于制造醫(yī)療設備、航空航天部件和其他高端工業(yè)產品。
4、產品用途
高純度：鉻靶材通常具有高純度，能夠滿足各種工藝對材料純度的要求。
工藝適用性：鉻靶材可用于不同的薄膜沉積工藝，包括物理蒸發(fā)沉積和磁控濺射等。
應用領域：鉻靶材在半導體制造、光學涂層、表面處理等領域有廣泛的應用。
性能優(yōu)異：鉻靶材具有優(yōu)異的化學穩(wěn)定性和耐腐蝕性，能夠滿足高端產品對材料性能的要求。
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高熵合金（High entropy alloys，HEAs）是由4種或4種以上元素以等摩爾比或近似等摩爾比組成的具有簡單晶體結構的合金。與傳統(tǒng)合金不同，高熵合金沒有主體元素，傾向于形成簡單固溶體結構，
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