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HTAF-1200系列氣氛還原爐主要包含加熱系統(tǒng)，抽真空系統(tǒng)，氣體控制系統(tǒng)，密封閥門系統(tǒng)。通過向高溫加熱設(shè)備里充入適量還原性氣體和加熱設(shè)備里面的物質(zhì)發(fā)生化學(xué)還原反映，從而得到自己想要的產(chǎn)品或效果。

還原氣氛爐廠家廣泛應(yīng)用于實驗室、工礦企業(yè)、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型，額定溫度分別為1100℃、1300℃、1500℃、1600、1700℃，根據(jù)不同的氣氛，不同的溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

HTAF-1200系列氣氛還原爐以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用1700型氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊并通有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計后由后膛進出，有多處洗爐膛進氣口、出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。HTAF-1200系列實驗氣氛爐廣泛應(yīng)用于實驗室、工礦企業(yè)、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型。