看了濺射蒸碳儀SD-900C的用戶又看了
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SD-900C 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致，是針對SEM用戶研制生產(chǎn)的一款既能濺射金、銀、銅、鉑又能蒸發(fā)碳膜的一機多用設備。此款機器具有小巧方便操作簡單成膜效果好之優(yōu)點，可以滿足廣大SEM用戶隨時樣品制備的需要。
工作時結合內(nèi)部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得**鍍膜效果。
離子濺射部分是比較常用的鍍膜方式，是以金屬靶材和樣品臺分別作為陰陽兩極，在真空狀態(tài)下產(chǎn)生輝光放電，使金原子與殘存的氣體不斷碰撞而沉積成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。
具有成膜均勻，操作簡單，所需時間短，過程可控等優(yōu)點。
熱蒸發(fā)部分是把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史*悠久的鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)主要用于蒸發(fā)碳。使用超純的碳纖維繩為嚴格的高分辨掃描電鏡、透射電鏡、EBSD及探針分析提供高質(zhì)量的鍍膜處理。因為碳原子能夠直接沉積在樣品表面而不發(fā)生橫向移動，所以碳能夠形成小于1nm的顆粒。
參數(shù)：
儀器尺寸 ：主機 300mm×360mm×380mm（W×D×H）
蒸鍍 300mm×360mm×160mm（W×D×H）
真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
濺射靶材：Au
濺射靶材大?。?#966;50mm
樣品臺：樣品臺尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺，樣品臺可調(diào)節(jié)高度。也可根據(jù) 自身要求定制樣品臺
濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調(diào)
濺射電流：0-50mA
濺射定時：0-360S
蒸碳電流 0-100A(AC)
蒸發(fā)材料：碳纖維
蒸發(fā)工作電壓：0-30V
蒸發(fā)時間：0-1S微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管
可通入氣體： 多種
輸入電壓：220V(可做110V)，50HZ
真空泵： 2升機械旋轉(zhuǎn)泵（國產(chǎn)VRD-8）
特點：
1、簡單、經(jīng)濟、可靠、外觀精美。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。
5、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。
6、碳纖維繩更加細膩均勻、快速，更有利于分析材料結構
暫無數(shù)據(jù)！
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