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SD-900C 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致，是針對(duì)SEM用戶研制生產(chǎn)的一款既能濺射金、銀、銅、鉑又能蒸發(fā)碳膜的一機(jī)多用設(shè)備。此款機(jī)器具有小巧方便操作簡(jiǎn)單成膜效果好之優(yōu)點(diǎn)，可以滿足廣大SEM用戶隨時(shí)樣品制備的需要。

工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得**鍍膜效果。

離子濺射部分是比較常用的鍍膜方式，是以金屬靶材和樣品臺(tái)分別作為陰陽(yáng)兩極，在真空狀態(tài)下產(chǎn)生輝光放電，使金原子與殘存的氣體不斷碰撞而沉積成薄膜?？梢允褂肁u，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。

具有成膜均勻，操作簡(jiǎn)單，所需時(shí)間短，過(guò)程可控等優(yōu)點(diǎn)。

熱蒸發(fā)部分是把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過(guò)對(duì)鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過(guò)程。通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史*悠久的鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)主要用于蒸發(fā)碳。使用超純的碳纖維繩為嚴(yán)格的高分辨掃描電鏡、透射電鏡、EBSD及探針?lè)治鎏峁└哔|(zhì)量的鍍膜處理。因?yàn)樘荚幽軌蛑苯映练e在樣品表面而不發(fā)生橫向移動(dòng)，所以碳能夠形成小于1nm的顆粒。

參數(shù)：

儀器尺寸 ：主機(jī) 300mm×360mm×380mm（W×D×H）

蒸鍍 300mm×360mm×160mm（W×D×H）

真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）

靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）

濺射靶材：Au

濺射靶材大?。?#966;50mm

樣品臺(tái)：樣品臺(tái)尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺(tái)，樣品臺(tái)可調(diào)節(jié)高度。也可根據(jù) 自身要求定制樣品臺(tái)

濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調(diào)

濺射電流：0-50mA

濺射定時(shí)：0-360S

蒸碳電流 0-100A(AC)

蒸發(fā)材料：碳纖維

蒸發(fā)工作電壓：0-30V

蒸發(fā)時(shí)間：0-1S微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

可通入氣體： 多種

輸入電壓：220V(可做110V)，50HZ

真空泵： 2升機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（國(guó)產(chǎn)VRD-8）

特點(diǎn)：

1、簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。

2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

3、SETPLASMA手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。

4、真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路。

5、同時(shí)可以通過(guò)更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。

6、碳纖維繩更加細(xì)膩均勻、快速，更有利于分析材料結(jié)構(gòu)