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ETD-2000 型離子濺射儀外觀沉穩(wěn)大氣，采用真空自動(dòng)控制和真空保護(hù)電路，使操作和應(yīng)用更加安全可靠。為擴(kuò)大應(yīng)用領(lǐng)域，可同時(shí)手動(dòng)調(diào)整濺射儀的電離電流或手動(dòng)調(diào)整其真空微調(diào)針閥，改變電離室的壓強(qiáng)，獲得**的噴鍍效果。獨(dú)特的真空橡膠壓邊密封結(jié)構(gòu)，保證長(zhǎng)期使用不會(huì)使鐘罩邊緣出現(xiàn)毛邊而影響真空室中的真空度，陶瓷密封高壓插頭經(jīng)久耐用。

工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得**鍍膜效果。

ETD-2000型是一款*常用的離子濺射儀，是一切濺射儀的基礎(chǔ)。是以金屬靶材和樣品臺(tái)分別作為陰陽兩極，在真空狀態(tài)下產(chǎn)生輝光放電，使金原子與殘存的氣體不斷碰撞而沉積成薄膜?？梢允褂肁u，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。

具有成膜均勻，操作簡(jiǎn)單，所需時(shí)間短，過程可控等優(yōu)點(diǎn)。

配有高位定性真空泵

參數(shù)：

主機(jī)規(guī)格：305mm×365mm×325mm（W×D×H）

靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H）

靶材：Au（標(biāo)配），也可根據(jù)實(shí)際情況配備銀靶、鉑靶等

樣品室：硼硅酸鹽玻璃160mm×120mm（D×H）

靶材尺寸：Ф50mm

真空指示表： **真空度：≤ 4X10-2 mbar

離子電流表： **電流：50mA

定時(shí)器： *長(zhǎng)時(shí)間：3600s

微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

可通入氣體： 多種

**電壓： -1600 DCV

輸入電壓：220V(可做110V)，50HZ

機(jī)械泵：標(biāo)準(zhǔn)配置2L/S（國(guó)產(chǎn)VRD-8）

特點(diǎn)：

1、簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、可靠。

2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

4、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。

5、同時(shí)可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。

6、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。

7、數(shù)字計(jì)時(shí)器定時(shí)自由方便。

8、計(jì)時(shí)器可隨時(shí)停止，觀察樣品涂層，并可繼續(xù)工作。

9、可調(diào)節(jié)樣品臺(tái)，適用于多種樣品。

需要鍍膜的樣品

1、電子束敏感的樣品:

主要包括生物樣品，塑料樣品等。S EM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對(duì)電子束敏感的材料，那這種相互作用會(huì)破壞部分甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護(hù)層的作用，防止此類損傷；

2、非導(dǎo)電的樣品:

由于樣品不導(dǎo)電，其表 面帶有“電子陷阱”， 這種表面上的電子積累 被稱為“充電”。為了 消除荷電效應(yīng)，可在樣 品表面鍍一層金屬導(dǎo)電 層，鍍層作為一個(gè)導(dǎo)電 通道，將充電電子從材 料表面轉(zhuǎn)移走，消除荷 電效應(yīng)。在掃描電鏡成 像時(shí)，濺射材料增加信 噪比，從而獲得更好的成像質(zhì)量。

3、新材料:非導(dǎo)電材料和半導(dǎo)體材料