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ETD-2000III型三靶離子濺射儀
是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的*簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。本機(jī)特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)安裝了三個(gè)靶，旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。
工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得**鍍膜效果。
配有高位定性的飛躍真空泵
The ETD-2000III type three target ion sputtering apparatus is the simplest， reliable and economical coating equipment designed on the basis of DC (DC) sputtering principle. This machine is specially designed to install three targets in a vacuum chamber. The rotating sample stage can be coated with three materials on the same sample in turn. Therefore， it is suitable for the preparation of various composite membrane samples and the fabrication of experimental electrodes for non conductor materials. It is easy to control the vacuum chamber pressure， ionization current and choose the required ionization gas when working in conjunction with the internal automatic control circuit， so as to achieve the best coating effect. High qualitative jump vacuum pump
| 濺射氣體 | 濺射靶材 | 濺射電流 | 濺射速率 | 樣品倉(cāng)尺寸 | 樣品臺(tái)尺寸 | 工作電壓 |
| 根據(jù)實(shí)驗(yàn)?zāi)康目商砑託鍤?，氮?dú)獾榷喾N氣體。 | 標(biāo)配靶材為金靶，厚度為50mm*0.1mm。也可根據(jù)實(shí)際情況配備銀靶、鉑靶等。 | **電流 50mA，**工作電流30mA | 優(yōu)于40nm/min | 直徑160mm，高120mm | 樣品臺(tái)尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺(tái)，也可根據(jù)自身要求定制樣品臺(tái) | 220V (可做110V)， 50HZ |
需要鍍膜的樣品
| 電子束敏感的樣品 | 非導(dǎo)電的樣品 | 新材料 |
| 主要包括生物樣品，塑料樣品等。S EM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過(guò)程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對(duì)電子束敏感的材料，那這種相互作用會(huì)破壞部分甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護(hù)層的作用，防止此類(lèi)損傷； | 由于樣品不導(dǎo)電，其表面帶有“電子陷阱”，這種表面上的電子積累被稱(chēng)為“充電”。為了消除荷電效應(yīng)，可在樣品表面鍍一層金屬導(dǎo)電層，鍍層作為一個(gè)導(dǎo)電通道，將充電電子從材料表面轉(zhuǎn)移走，消除荷電效應(yīng)。在掃描電鏡成像時(shí)，濺射材料增加信噪比，從而獲得更好的成像質(zhì)量。 | 非導(dǎo)電材料實(shí)驗(yàn)電極制作觀(guān)察導(dǎo)電特性 |
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