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技術(shù)介紹：系統(tǒng)采用雙傳感器設(shè)計(jì)，可在石墨盤旋轉(zhuǎn)同時(shí)進(jìn)行整個(gè)石墨盤的漫反射率、鏡面反射率及發(fā)射率二維分布Mapping 測量；
原理用途：物體的發(fā)射率與物體的表面狀態(tài)(包括物體表面溫度、表面粗糙度、面形以及表面氧化層、涂層、缺陷、殘留物、表面雜質(zhì)等)有關(guān)。所以，通過對石墨盤各個(gè)點(diǎn)發(fā)射率的測量可以直接反映出石墨盤表面肉眼難以觀測到的表面細(xì)節(jié)，同時(shí)基于黑體輻射原理進(jìn)一步評估石墨盤表面溫度的分布情況。這對有效控制器件的質(zhì)量，以及優(yōu)化生長工藝有極大的幫助。
技術(shù)指標(biāo)及特點(diǎn)：
1. 掃描尺寸：700mm；
2. 適配石墨盤：大部分商用石墨盤；
3. 掃描分辨率：徑向分辨率0.05mm，角度分辨率0.1°，用戶可自定義；
4. 掃描時(shí)間：10 分鐘（465mm 尺寸的石墨盤，以徑向1mm，角度0.1°測量）；
5. 測量光點(diǎn)尺寸：2mm
6. 光源波長：940nm 或660nm（可選）；
7. 鏡漫反射率分辨率：±0.005；鏡漫反射率準(zhǔn)確度：±0.01；發(fā)射率分辨率：±0.01；發(fā)射率準(zhǔn)確度：±0.02；
8. 系統(tǒng)為離線測量設(shè)備，便于石墨盤的裝卸。軟件操作簡單，專為操作員及工程師設(shè)計(jì)；
暫無數(shù)據(jù)！
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