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美國(guó)Filmetrics 光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x F60-C膜厚測(cè)量?jī)x
自動(dòng)化薄膜厚度分布圖案系統(tǒng)
F60-c 光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x先進(jìn)的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡(jiǎn)單快速地獲得薄膜的厚度及 n&k， 采用 r-θ 極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以在幾秒鐘的時(shí)間內(nèi)快速的定位所需測(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度， 可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、 或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測(cè)試點(diǎn)。 針對(duì)不同的晶圓尺寸，盒對(duì)盒系統(tǒng)可以很容易的自動(dòng)轉(zhuǎn)換，匹配當(dāng)前盒子的尺寸。 49點(diǎn)的分布圖測(cè)量只需耗時(shí)約 45秒。
可測(cè)樣品膜層
基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測(cè)量。例如
氧化硅 氮化硅 類金剛石 DLC
光刻膠 聚合物 聚亞酰胺
多晶硅 非晶硅 硅
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