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緊湊磁控濺射鍍膜機
緊湊磁控濺射鍍膜機

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韓國

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上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

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磁控濺射鍍膜機 - 緊湊,適合科研,極高性價比!

型號:AP-MMS1

產(chǎn)地:韓國原裝進口

儀器特點:

1/ 沉積材料:金屬、氧化物等;

2/ 膜厚均勻性:≤ ± 5 % (4英寸基底);

3/ 沉積方式:直流磁控濺射,射頻磁控濺射;

4/ 極限真空:5.0 x 10 -6 Torr;

技術(shù)規(guī)格:

1/ **樣品尺寸:6英寸;

2/ 基底旋轉(zhuǎn):0~10rpm;

3/ 不銹鋼腔體,ID250 x H300 mm;

4/ 真空泵:機械泵,150L/Min;

5/ 靶槍:2英寸直徑 (選配:3英寸);

6/ 直流電源:2KW(800V - 2.5A);

7/ 氣體傳輸模塊:MFC控制,氬氣,100sccm;

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