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Otsuka膜厚測量儀
Otsuka膜厚測量儀

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日本

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廣州市固潤光電科技有限公司

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在高精度薄膜分析的膜厚測量儀基礎上,增加安裝了自動角度調(diào)節(jié)裝置,實現(xiàn)高速的薄膜測量和高精度的化學常數(shù)解析。可拆卸緩速器和旋轉(zhuǎn)分析儀也拓寬了測量的選擇范圍,提高了測量精度。FE-5OOOS 然和FE-5000有相同的基本功能,但是價格低,體積小膜厚測量儀的用途得到擴大。

— 可對應各種選配,膜厚的特制解析

測量項目:

-測量橢圓參數(shù)(TANψ,COSΔ)

-光學常數(shù)(n:折射率,k:消光系數(shù))分析

-薄膜厚度分析

應用范圍:

半導體晶

柵氧化膜,氮化膜

SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe,BPSG,TiN

光學常數(shù)(波長色散)

復合半導體

AlxGa(1-x)多層膜、非晶硅

FPD

取向膜

等離子顯示器用ITO、MgO等

各種新材料

DLC(類金剛石碳)、超導薄膜、磁頭薄膜

光學薄膜

TiO2,SiO2多層膜、防反射膜、反射膜

光刻領域

g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)和KrF(248nm)等波長的n、k評估

原理

包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上,對于反射光的橢圓偏振光進行測量。s波和p波的位相和振幅獨立變化,可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù),即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。

測量示例:

1)考慮到表面粗糙度測量膜厚度值[FE-0008]

當樣品表面存在粗糙度(Roughness)時,將表面粗糙度和空氣(air)及膜厚材料以1:1的比例混合,模擬為“糙層”,可以分析粗糙度和膜厚度。以下介紹了測量表面粗糙度為幾nm的SiN(氮化硅)的情況。

測量示例:

1)考慮到表面粗糙度測量膜厚度值[FE-0008]

當樣品表面存在粗糙度(Roughness)時,將表面粗糙度和空氣(air)及膜厚材料以1:1的比例混合,模擬為“糙層”,可以分析粗糙度和膜厚度。以下介紹了測量表面粗糙度為幾nm的SiN(氮化硅)的情況。

2)使用非干涉層模型測量封裝的有機EL材料[FE-0011]

有機EL材料易受氧氣和水分的影響,并且在正常大氣條件下它們可能會發(fā)生變質(zhì)和損壞。因此,在成膜后立即用玻璃密封。以下介紹在密封狀態(tài)下通過玻璃測量膜厚度的情況。玻璃和中間空氣層使用非干涉層模型。

產(chǎn)品特點:

-可分析納米級多層薄膜的厚度

-可在紫外和可見(250至800nm)波長范圍內(nèi)進行橢偏測量

-可通過超過400ch的多通道光譜快速測量Ellipso光譜

-通過可變反射角測量,可詳細分析薄膜

-通過創(chuàng)建光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫和追加菜單注冊功能,增強操作便利性

-通過層膜貼合分析的光學常數(shù)測量可控制膜厚度/膜質(zhì)量

*1可以驅(qū)動偏振器,可以分離不感帶有效的位相板。*2取決于短軸•角度。*3對應微小點(可選)*4它是使用VLSI標準SiO2膜(100nm)時的值。*5可以在此波長范圍內(nèi)進行選擇。*6光源因測量波長而異。*7選擇自動平臺時的值。

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