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日立高新磁控濺射器MC1000
日立高新磁控濺射器MC1000

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日本

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日立科學(xué)儀器（北京）有限公司

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日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠**限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

  • 日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的**樣品直徑：60 mm

  • 日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的**樣品高度：20 mm

特點(diǎn)：

  • 采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件

  • 可處理較厚或較大的樣品(選配件)

  • 記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

規(guī)格：

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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公司動(dòng)態(tài)
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