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拉普拉斯低壓水平磷擴散設備 LRP430品牌
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設備的應用及特點：
應用：
本設備適合156-210mm硅片生產(chǎn)，無傳統(tǒng)技術(shù)的搭片及其帶來的方阻均勻性問題，更高的方阻均勻性為客戶帶來更窄的效率分布和更高的電性能良率。更高的方阻均勻性為下一代高方阻工藝提供了可能，能幫助客戶進一步提升轉(zhuǎn)換效率和競爭力。本設備具有行業(yè)內(nèi)**產(chǎn)能，能幫助客戶降低固定資產(chǎn)投入和運營成本。
產(chǎn)品特點：
1. 水平放片，管內(nèi)空間利用率高，能耗低；
2. 硅片方向與氣流方向一致，硅片對氣流阻擋小，片內(nèi)/片間均勻性更優(yōu)；
3. 自重擠壓，減少硅片間間隙，繞擴/繞鍍可控；
4. 水平放片，更適合超大，超薄硅片生產(chǎn)；
5. 電池技術(shù)適用性和通用性高，可用于PERC，TOPCon等各種電池結(jié)構(gòu)；
6. 整機模塊化設計，兼容性好，可相互升級轉(zhuǎn)換；
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