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專業(yè)的PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)（基片尺寸Φ2inch， 4inch， 6inch， 8inch、or flexible tape）供應商，憑借多年的嫻熟的經驗、雄厚的研發(fā)實力和生產能力，為不同客戶提供專業(yè)脈沖沉積系統(tǒng)方案和優(yōu)質的技術服務；并且已經被眾多**高校、研究所和R&D企業(yè)所采用。
同時也為客戶提供同類設備：
大面積電子束沉積系統(tǒng)：沉積區(qū)域70mmx200mm，適合金屬、絕緣材料和介電材料等沉積；
大面積濺射系統(tǒng)：沉積區(qū)域Max 75mm(W) x 310mm(L)，適合金屬、半導體、絕緣材料和介電材料等沉積；
小型化濺射臺：φ１inch～φ２inch基片，價格優(yōu)惠，特別適合高校研究使用；
技術參數(shù)：
基片尺寸：Φ2inch， 4inch， 6inch， 8inch、or flexible tape material applied；
靶尺寸：Size Φ1”inch to Φ８inch；
靶數(shù)量：up to 6pcs；
基片加熱： up to 900℃；
真空度：5x10-5 Pa，(On request，6x10-6 Pa or less) ；
主要特點：
靶Swing功能；
激光束掃描功能；
配備準分子激光器；
可選功能：Load Lock Chamber
RHEED分析功能
多功能系統(tǒng)：Comibination with Sputter gun，Electron beam、IBAD
暫無數(shù)據！
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