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儀器簡(jiǎn)介：
全球?qū)I(yè)的薄膜沉積生長(zhǎng)速率監(jiān)控系統(tǒng)，采用無損的激光技術(shù)實(shí)時(shí)原位檢測(cè)薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學(xué)常量（n&k），可廣泛的應(yīng)用于金屬有機(jī)化學(xué)氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統(tǒng)Sputtering和蒸發(fā)系統(tǒng)等薄膜沉積過程的實(shí)時(shí)原位監(jiān)控。
主要特點(diǎn)：
*實(shí)時(shí)薄膜沉積速率、薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)（n&k）分析，同時(shí)標(biāo)準(zhǔn)偏差統(tǒng)計(jì)分析；
*自動(dòng)程序化校準(zhǔn)；
*精密的實(shí)時(shí)反饋系統(tǒng)；
*程序控制，可實(shí)時(shí)多層薄膜沉積監(jiān)控和控制；
*多Wafer監(jiān)控功能；
*Wafer基底旋轉(zhuǎn)監(jiān)控和控制功能；
*所有參量原位實(shí)時(shí)檢測(cè)；
*操作裝配簡(jiǎn)單便捷；
暫無數(shù)據(jù)！
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