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光刻機/曝光機
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儀器簡介:

又名:掩膜對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),光刻機等;

全球**的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,多年來致力于掩膜對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上*早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多**企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;依優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞。

相關(guān)設(shè)備:

甩膠機,甩膜機,涂膠機,旋轉(zhuǎn)涂膜機,勻膜機,清洗機,顯影機等;

技術(shù)參數(shù):

基片尺寸:4、6、8、12、25英寸,其他要求支持;

光束均勻性:<±3%;

曝光時間可調(diào)范圍:0.1 to 999.9秒;

對準精度:1微米,**0.5微米;

分辨率:1微米;

光束輸出強度:15-25mW/cm2;

主要特點:

光源強度可控;

紫外、深紫外曝光;

系統(tǒng)控制:手動、半自動和全自動控制;

曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity靠近模式, 投影模式;

真空吸盤范圍可調(diào);

**技術(shù):雙面對準!

雙重顯微鏡系統(tǒng),**放大1600倍;

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