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桌面納米壓印機,易于復制微米和納米級結(jié)構(gòu)。
納米壓印(熱和紫外線)
直徑高達210mm圓形模板,帶紫外線
150 * 150mm方片模板,采用熱處理工藝
熱壓印
操作簡單直觀
用途廣泛
即插即用
專為研發(fā)而設(shè)計
CNI v3.0 PV是用于納米壓印和熱壓印的小型桌面工具,可完成微米和納米結(jié)構(gòu)從模板復制到基質(zhì)。
CNI v3.0 PV納米壓印機可以執(zhí)行熱壓印以及紫外壓印,CNI納米壓印機是納米復制的**起點,同時也支持成熟和高級的開發(fā)工作,納米壓印機操作簡單,堅固耐用,便于非標準流程和新實驗。
易于安裝即插即用(不到20分鐘的時間內(nèi)就可運行工作)
優(yōu)勢憑借其熱壓印和紫外壓印的功能,如果需要,在真空中,CNI v3.0 PV納米壓印機在其產(chǎn)品中是****的,并支持許多不同的技術(shù)和工藝。
使用方便無需查看使用手冊,每個人都能使用;
緊湊尺寸26*30*14cm(120mm腔室的尺寸);
42*44*14cm(210mm腔室的尺寸);
安裝 CNI結(jié)構(gòu)緊湊,無需固定安裝;
高質(zhì)量壓印能夠?qū)⑿∮?/span>40nm的結(jié)構(gòu)復制到大于100μm的結(jié)構(gòu);
多功能可使用任何尺寸的印章和模板,直徑**210mm(8英寸)圓形的模板;
技術(shù)支持提供個性化支持,專注于您的加工需求;
特征:桌面大小的納米壓印工具
熱壓印溫度高達250℃
紫外納米壓印,365nm曝光(or405nm–自定義選項)
壓印壓力從0.3到11bar
在真空壓印1mbar
印章和基材尺寸:直徑可達210mm
印章和基材沒有固定的樣式
堅固且易于使用
手動裝卸印章和模板
自動程控
軟件操作界面簡單
可記錄所有步驟和流程
CNI V3.0支持許多不同的技術(shù):
熱納米壓印
UV納米壓印
熱壓印
微米結(jié)構(gòu)壓印
聚合物粘合
舉例:
納米結(jié)構(gòu)壓印
微結(jié)構(gòu)壓印
硅片上納米間距的光柵壓印
在軟性的基材上壓?。ㄈ?/span>III-V材料,InP)
印章生產(chǎn)
高縱橫比結(jié)構(gòu)的熱壓印
聚合物熱壓印
熱聚合物粘合
要求:
現(xiàn)場安裝的技術(shù)要求
壓縮干燥空氣或氮氣壓力6-11bar,外徑6mm連接器,流量至少應該1/2標準L/min;
在10mm外徑連接器中,真空度優(yōu)于0.1mbar(如果有真空選項);
功率:110-240V (50-60HZ, 大于200W);
環(huán)境
應安裝在干凈、無塵和無顆粒的環(huán)境,以達到**效果;
工作溫度范圍10-35℃;
工作濕度范圍30-70%;
其他
增壓器:如果你的實驗室不能提供高于6 bar的壓縮空氣壓力,NILT可以提供一個增壓器,可以將3-5 bar加到6-10 bar;
真空泵選項:NILT建議使用Edwards nXDS6i干式渦旋真空泵。任何其他相似或更好規(guī)格的泵也可正常工作;
規(guī)格:
壓力:0.3-11bar
溫度:高達200℃,精度+/-1℃,可選高溫模塊,適用于250℃
紫外線曝光:在120mm腔室中,波長為365mm或405 nm的紫外線LED燈,光功率為12 W,在210 mm腔室中為~100mW/cm2或~165mW/cm2的光功率為57W
真空:可將腔室抽真空至低于1mbar的壓力
腔室尺寸:- 直徑120毫米,高度20毫米(**可擴展到45毫米)
- 直徑為210毫米,高度**為20毫米(無法擴展)
自動復制過程:手動裝載印章和基材;通過CNI軟件控制,整個復制過程完全自動化軟件:全程控制和靈活性除了裝載和卸載之外的所有東西都由軟件處理
CNI定制: 可根據(jù)您的需求定制
在線視頻說明:在線安裝視頻和操作提示
可選項:增壓器可將實驗室壓縮空氣供應從3-5bar提升至6-10bar,由NLT人員進行培訓和/或安裝
暫無數(shù)據(jù)!