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CNI v3.0 -桌面納米壓印工具
CNI v3.0 -桌面納米壓印工具

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產(chǎn)地

丹麥

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暫無
邁可諾技術(shù)有限公司

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桌面納米壓印機,易于復制微米和納米級結(jié)構(gòu)。

納米壓印(熱和紫外線)

直徑高達210mm圓形模板,帶紫外線

150 * 150mm方片模板,采用熱處理工藝

熱壓印

操作簡單直觀

用途廣泛

即插即用

專為研發(fā)而設(shè)計

CNI v3.0 PV是用于納米壓印和熱壓印的小型桌面工具,可完成微米和納米結(jié)構(gòu)從模板復制到基質(zhì)。

CNI v3.0 PV納米壓印機可以執(zhí)行熱壓印以及紫外壓印,CNI納米壓印機是納米復制的**起點,同時也支持成熟和高級的開發(fā)工作,納米壓印機操作簡單,堅固耐用,便于非標準流程和新實驗。

易于安裝即插即用(不到20分鐘的時間內(nèi)就可運行工作)

優(yōu)勢憑借其熱壓印和紫外壓印的功能,如果需要,在真空中,CNI v3.0 PV納米壓印機在其產(chǎn)品中是****的,并支持許多不同的技術(shù)和工藝。

使用方便無需查看使用手冊,每個人都能使用;

緊湊尺寸26*30*14cm(120mm腔室的尺寸)

42*44*14cm(210mm腔室的尺寸);

安裝 CNI結(jié)構(gòu)緊湊,無需固定安裝;

高質(zhì)量壓印能夠?qū)⑿∮?/span>40nm的結(jié)構(gòu)復制到大于100μm的結(jié)構(gòu);

多功能可使用任何尺寸的印章和模板,直徑**210mm(8英寸)圓形模板;

技術(shù)支持提供個性化支持,專注于您的加工需求;

特征:桌面大小的納米壓印工具

熱壓印溫度高達250

紫外納米壓印,365nm曝光(or405nm自定義選項)

壓印壓力從0.311bar

在真空壓印1mbar

印章和基材尺寸:直徑可達210mm

印章和基材沒有固定的樣式

堅固且易于使用

手動裝卸印章和模板

自動程控

軟件操作界面簡單

可記錄所有步驟和流程

CNI V3.0支持許多不同的技術(shù):

熱納米壓印

UV納米壓印

熱壓印

微米結(jié)構(gòu)壓印

聚合物粘合

舉例:

納米結(jié)構(gòu)壓印

微結(jié)構(gòu)壓印

硅片上納米間距的光柵壓印

在軟性的基材上壓?。ㄈ?/span>III-V材料,InP

印章生產(chǎn)

高縱橫比結(jié)構(gòu)的熱壓印

聚合物熱壓印

熱聚合物粘合

要求:

現(xiàn)場安裝的技術(shù)要求

壓縮干燥空氣或氮氣壓力6-11bar,外徑6mm連接器,流量至少應該1/2標準L/min;

10mm外徑連接器中,真空度優(yōu)于0.1mbar(如果有真空選項);

功率110-240V (50-60HZ, 大于200W);

環(huán)境

應安裝在干凈、無塵和無顆粒的環(huán)境,以達到**效果;

工作溫度范圍10-35

工作濕度范圍30-70%;

其他

增壓器:如果你的實驗室不能提供高于6 bar的壓縮空氣壓力,NILT可以提供一個增壓器,可以將3-5 bar加到6-10 bar;

真空泵選項:NILT建議使用Edwards nXDS6i干式渦旋真空泵。任何其他相似或更好規(guī)格的泵也可正常工作;

規(guī)格:

壓力:0.3-11bar

溫度:高達200,精度+/-1,可選高溫模塊,適用于250

紫外線曝光:120mm腔室中,波長為365mm405 nm的紫外線LED燈,光功率為12 W210 mm室中為~100mW/cm2~165mW/cm2光功率為57W

真空:可將腔室抽真空至低于1mbar的壓力

腔室尺寸:- 直徑120毫米,高度20毫米(**可擴展到45毫米)

- 直徑為210毫米,高度**為20毫米(無法擴展)

自動復制過程:手動裝載印章和基材;通過CNI軟件控制,整個復制過程完全自動化軟件:全程控制和靈活性除了裝載和卸載之外的所有東西都由軟件處理

CNI定制: 可根據(jù)您的需求定制

在線視頻說明:在線安裝視頻和操作提示

可選項:增壓器可將實驗室壓縮空氣供應從3-5bar提升至6-10bar,由NLT人員進行培訓和/或安裝

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