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電阻蒸發(fā)鍍膜設備ZHD300品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設備型號：ZHD300 鍍膜方式：多源金屬蒸發(fā)真空腔室結構：玻璃鐘罩 + 不銹鋼底座真空腔室尺寸：Φ300mm×H360mm 加熱溫度：室溫～ 250℃ 基片臺尺寸：Φ100mm 膜厚不均勻性：Φ80mm 范圍內(nèi)≤ ±5.0% 蒸發(fā)源：2組金屬蒸發(fā)源控制方式：PLC + 觸摸屏控制占地面積：主機 L1100mm×W800mm 總功率：≥ 5kW 適用范圍：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備
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