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設(shè)備名稱：PVD大面積磁控鍍膜設(shè)備

設(shè)備型號：JCPF2600

鍍膜方式：磁控濺射

真空腔室結(jié)構(gòu)：SUS304 方箱式

真空腔室尺寸：L2600mmxH700mmxW260mm

極限真空：優(yōu)于 5.0x10-5Pa

基片臺尺寸：300mmx400mm向下兼容300mmx300mm

基片溫度：常溫

濺射靶：矩形平面靶1套，旋轉(zhuǎn)柱狀靶2套

控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 )

占地面積：15000mmx5000mm

供電總功率：≥ 20kW 三相五線制

1. 大面積，復(fù)合型，批量制備，潔凈真空不同功能復(fù)合涂層制備，可獲得更高電池轉(zhuǎn)換效率；

2. 廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦空穴傳輸層及金屬背電極等膜層的制備；

3. 技術(shù)先進(jìn)、設(shè)計優(yōu)化，性價比高，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；