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CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備品牌
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CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備詳情
CVD設(shè)備適用于熱絲法化學(xué)氣相沉積金剛石，采用鎢絲/鉭絲作為加熱器，加熱分解碳物質(zhì)，激活化學(xué)氣相反應(yīng)，制備金剛石膜。
安裝形式 | 立式 |
加熱器分布方式 | 圓周分布 |
加熱器材質(zhì) | 鎢絲/鉭絲 |
保溫材料 | — |
MAX溫度 | 3000℃ |
控溫精度 | ±1℃ |
均溫性 | ±5℃ |
極限真空度 | 5×10-4Pa |
均溫區(qū)尺寸 | 按客戶要求定制 |
控制方式 | 自動(dòng)/手動(dòng) |
暫無數(shù)據(jù)！
隨著光伏產(chǎn)業(yè)、電子元件、半導(dǎo)體等行業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的持續(xù)擴(kuò)大，以及我國(guó)進(jìn)一步強(qiáng)化在全球太陽(yáng)能電池及組件、電子信息等產(chǎn)業(yè)的制造基地地位。這一趨勢(shì)帶動(dòng)了國(guó)內(nèi)各類新材料以及真空設(shè)備制造業(yè)的發(fā)展，并為國(guó)內(nèi)真空爐設(shè)備
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