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?摘要：化學機械拋光（CMP）是一種廣泛應用于半導體晶圓加工，通過結合化學力和機械力對晶圓表面進行拋光、平坦化。CMP Slurry（拋光液/研磨液）是用于CMP工藝中的重要原料，通常由納米及亞微米級別原料組成。而Slurry中的大顆粒的存在易在CMP工藝中對晶圓表面造成劃痕，影響成品良率。因此在生產

?摘要：化學機械拋光（CMP）是一種廣泛應用于半導體晶圓加工，通過結合化學力和機械力對晶圓表面進行拋光、平坦化。CMP Slurry（拋光液/研磨液）是用于CMP工藝中的重要原料，通常由納米及亞微米級別原料組成。而Slurry中的大顆粒的存在易在CMP工藝中對晶圓表面造成劃痕，影響成品良率。因此在生產

?USP788解讀與Accusizer A2000應用摘要：USP美國藥典是美聯(lián)邦對藥品質量標準和檢定方法作出的技術規(guī)定，其中USP<788>章節(jié)是對注射液中的不溶性顆粒的危害與檢測、判定標準做了詳細的表述，包括第一光阻法和第二顯微鏡法，本文將對USP<788>詳細解讀，主要分

?《光阻法測定乳狀注射液中大于5μm的乳粒》藥典解讀摘要：乳狀注射液中尾部大顆粒的含量對于其質量安全性有重要影響，本文圍繞著中國藥典《光阻法測定乳狀注射液中大于5μm的乳粒》一章節(jié)，以奧法美嘉公司的Accusizer A7000 APS設備為例，探究了光阻法的工作原理及其測量規(guī)范要求：粒徑及濃度的準確

?疫苗專題：乳佐劑制備與理化結構特性隨著亞單位疫苗、合成肽疫苗、核酸疫苗、抗獨特性抗體疫苗等各種新型疫苗的出現(xiàn)，免疫佐劑的研究越來越被人們關注，臨床應用也越來越廣泛。這些新型疫苗雖然具有抗原性良好、毒性低等優(yōu)點，但因其免疫原性低，需要配合高效免疫佐劑的使用。免疫佐劑可以先于抗原或與抗原同時使用，能夠非

?疫苗專題：乳佐劑制備與理化結構特性隨著亞單位疫苗、合成肽疫苗、核酸疫苗、抗獨特性抗體疫苗等各種新型疫苗的出現(xiàn)，免疫佐劑的研究越來越被人們關注，臨床應用也越來越廣泛。這些新型疫苗雖然具有抗原性良好、毒性低等優(yōu)點，但因其免疫原性低，需要配合高效免疫佐劑的使用。免疫佐劑可以先于抗原或與抗原同時使用，能夠非

?CMP工藝和CMP研磨液廣泛應用于微電路制造過程中的拋光中。CMP研磨液的品質是否良好對于能否最大限度地提高設備產量至關重要，所以需要定期測量研磨液的粒徑分布(PSD)。除了研磨液中顆粒的平均粒徑，這種監(jiān)測技術在理想情況下應該對遠偏離于分布主峰的尾端顆粒的存在敏感(即對于少量較大顆粒的高敏感性）。這

?CMP工藝和CMP研磨液廣泛應用于微電路制造過程中的拋光中。CMP研磨液的品質是否良好對于能否最大限度地提高設備產量至關重要，所以需要定期測量研磨液的粒徑分布(PSD)。除了研磨液中顆粒的平均粒徑，這種監(jiān)測技術在理想情況下應該對遠偏離于分布主峰的尾端顆粒的存在敏感(即對于少量較大顆粒的高敏感性）。這

?眼用溶液本質上應無可見顆粒，可以用兩種方法來檢測溶液中存在的亞可見顆粒。第1階段：使用光線遮擋（AccuSizer）來計算粒子的數(shù)量和大小。如果第1階段試驗失敗，樣品則必須通過顯微鏡程序（第2階段），該程序有其自身的限值。取樣必須基于各種因素，如產品體積、歷史計數(shù)數(shù)據(jù)、單位之間的計數(shù)可變性以及存在顆

?有許多方法可以確定乳液的平均液滴尺寸，但大多數(shù)方法無法確定少量會導致頸環(huán)的超大尺寸物質?；诖笮『陀嫈?shù)單個粒子的方法特別適合這種類型的分析，在此過程中，即使是少量異常值也可以進行大小和計數(shù)。通過原理為單顆粒光學傳感器技術（SPOS）的AccuSizer系統(tǒng)非常適合定量乳劑尾部中主要小于1微米的超大離

?傳統(tǒng)意義上，紅細胞和白細胞都是用電阻法計數(shù)的。這種方法測量的是當分散在導電介質中的粒子通過小孔時，電阻的增加或相反，電導率的減少。這種反應的大小與粒子的體積和大小有關。盡管這項技術多年來一直適用，但本文證明，使用SPOS(單粒子光學傳感)結合自動稀釋功能對紅細胞和白細胞的大小及顆粒計數(shù)檢測，可以比電

?傳統(tǒng)意義上，紅細胞和白細胞都是用電阻法計數(shù)的。這種方法測量的是當分散在導電介質中的粒子通過小孔時，電阻的增加或相反，電導率的減少。這種反應的大小與粒子的體積和大小有關。盡管這項技術多年來一直適用，但本文證明，使用SPOS(單粒子光學傳感)結合自動稀釋功能對紅細胞和白細胞的大小及顆粒計數(shù)檢測，可以比電

?CMP漿體粒徑分析：SPOS與費朗霍夫 半導體行業(yè)正在朝著更小的線寬和更多的層的方向發(fā)展。邁向這種高密度芯片技術的最重要的工藝考慮之一是對平面化步驟的更復雜的控制。拋光步驟受膠體分散金屬氧化物漿料（CMP，化學機械平面化的簡稱）的影響，主要是二氧化硅和氧化鋁，平均直徑在10nm-200nm范

?粒徑控制對脂質體載藥的重要作用及相關檢測方法摘要：脂質體作為藥物載體，控制其粒徑大小是必要的。動態(tài)光散射法和單顆粒光學傳感技術可分別對亞微米、微米級別的粒徑進行分析，美國藥典中對粒徑分布有明確的規(guī)定。通過實驗驗證了美國PSS公司的Nicomp 380/ZLS激光粒徑檢測儀、AccuSizer 780

?漿料粒徑對CMP工藝缺陷水平的影響 通過使用兩種粒度測量儀器，對最常用的化學機械拋光（CMP）氧化物漿料（CabotSC-112）的漿料粒度進行了分析。其中一種儀器是PSS粒度儀公司的Nicomp 370，用于監(jiān)測平均粒徑為100nm左右的漿料顆粒的主要群體。另一種儀器，Accusizer 770被

?漿料粒徑對CMP工藝缺陷水平的影響 通過使用兩種粒度測量儀器，對最常用的化學機械拋光（CMP）氧化物漿料（CabotSC-112）的漿料粒度進行了分析。其中一種儀器是PSS粒度儀公司的Nicomp 370，用于監(jiān)測平均粒徑為100nm左右的漿料顆粒的主要群體。另一種儀器，Accusizer 770被

?CMP 研磨液中顆粒的評價技術Geanne Vasiloulos, Zhenwu Lin, Kenneth Adrian 在化學機械拋光過程中，各種研磨液用于晶圓平坦化處理。這些研磨液中顆粒濃度可達＞1015顆/ml。除了用于拋光的大量顆粒外，研磨液中還含有相對較少＞1.0um的顆粒（二氧化

?USP <788> Particle Counting AccuSize系列儀器用于不溶性微粒檢測案例 醫(yī)用注射液不能含有可見異物。不可見異物通過使用光阻法的法、或者顯微鏡法檢測，或者兩者同時使用。在測量體積>100 mL時一般用光阻法，除另有規(guī)定外。針對單個或者混合無菌粉

?AN-708蛋白聚集概述基于治療的蛋白質溶液聚集可能產生有害的免疫原性。對于較大尺寸的團聚體，可以測量這些團聚體，但在0.15至2微米范圍內的較小團聚體很難量化。動態(tài)光散射(DLS)技術可以證明聚集體的存在，但不能提供任何關于聚集體的絕對濃度的信息。單粒光寫傳感器技術(SPOS)現(xiàn)在可以測量聚集蛋白

?噴墨墨水過濾噴墨中過大的顆粒會導致分散沉降、不穩(wěn)定或噴墨噴嘴失效。如果檢測到顆粒過大，就可以采取措施控制顆粒大小。其中一種方法是通過過濾去除大顆粒。測定分散顆粒平均直徑的方法有很多，但大多數(shù)都不能測定少量的超大尺寸材料?；诹６群陀嫈?shù)單個粒子的方法特別適合于這種類型的分析，在這個過程中，即使是少量的

?AN-754 ISO4406污染度等級應用指南必須監(jiān)控各種油（液壓油，變速箱和其他流體動力系統(tǒng)）中的顆粒污染，以確保其正常工作并避免損壞有價值的設備。通常使用遵循ISO4406標準報告格式的液體顆粒計數(shù)器（例如PSS AccuSizer）進行這些測量。本文介紹了AccuSizer如何自動執(zhí)行這些測量

?CMP過濾效率CMP解決方案在半導體技術高速公路上發(fā)揮著不可或缺的作用。它們是高密度集成電路生產中必不可少的步驟。CMP溶液是由多種組分組成的復雜分散體。這些膠體系統(tǒng)的生產和穩(wěn)定性非常復雜，很難預測，因此必須在生產過程中，甚至在最終裝運之前對它們進行監(jiān)控。一些CMP溶液表現(xiàn)出獨特的行為，受剪切和機械

?USP<729>脂質注射乳劑中顆粒大小分布 脂滴的大小是至關重要的，因為較大粒徑的乳粒(>5μm)可以被困在肺部，也是乳化液破壞穩(wěn)定的一個指標。 USP<729>測試需要兩種分析技術：DLS，或激光衍射，以測量分布的均值和標準差，光阻法是用于檢測大于5μm的尾端大顆粒。

?Application Note AN–CMP11Ultra-Sensitive Online Monitoring of CMP Slurries by Single-Particle Optical Sensing (SPOS) 通過單顆粒光學傳感（SPOS）對CMP漿料進行超靈敏的在線監(jiān)

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?利用LUMiSizer?表征納米氧化物水性分散體的分散性，穩(wěn)定性和粒徑 納米氧化物（如納米Al2O3、納米TiO2和納米ZnO等）水性分散體是納米氧化物粒子在水中的分散體。在多數(shù)情況下，納米氧化物粒子的成功使用強烈地依賴于把納米粒子分散于液相中的能力。像這樣特殊應用的領域如化妝品、涂料、紡織、拋光

?AN-170蛋白聚集概述在蛋白質溶液中聚集已被證明有有害的影響。對于較大的聚集體，可以測量這些聚集體，但是在0.150 nm至2微米范圍內的較小聚集體具有很難量化。Nicomp動態(tài)光散射(DLS)技術可以證明聚集體的存在，但不能提供任何關于聚集體絕對濃度的信息。討論生物治療藥物已被證明容易誘導產生抗

?AccuSizer檢測微泡超聲對微泡的存在極為敏感，因此它們被用作造影劑，在各種超聲分子成像程序中增強信號強度。這種方法通常稱為造影增強超聲(CEUS)。微泡的粒徑分布和濃度對成像質量和患者安全至關重要。PSS AccuSizer是準確確定用于分子成像的微泡的大小和濃度的首選方法。介紹許多超聲波分子

?Application Note AN–CMP10Analyzing Large Particles in CMP Slurries 分析CMP Slurry中的大顆?；瘜W機械拋光（CMP）工藝的質量取決于拋光設備和漿料，漿料由包含多種化學添加劑的液體中定義明確的固體顆粒組成。當今主要的生產問

?PSS粒度儀在脂質體行業(yè)上的應用 在醫(yī)藥和化妝品行業(yè)中脂質體是由磷脂制作而成的小球，它的粒徑和表面電荷的檢測是非常重要的一項。動態(tài)光散射是檢測亞微米脂質體最常見的分析技術，單顆粒光學傳感技術用于檢測大于1微米的脂質體。Nicomp 380激光粒度儀和AccuSizer 780顆粒計數(shù)器在世界各地的實