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器件的制造是通過一系列精確控制的加工工藝完成的，為了保證每步工序都能正確地進行，在每一個工藝步驟中都有許多測量和監(jiān)控技術(shù)，其中光學(xué)測量由于其非接觸、無破壞、無污染的特點被廣泛使用。

其中，光學(xué)測量的一項重要內(nèi)容是薄膜特性———例如厚度和光學(xué)性質(zhì)。目前，常用的光學(xué)測量技術(shù)根據(jù)其原理可分為: 光吸收法、干涉監(jiān)控法、偏振光分析法等。

今天小編為大家介紹的這款橢偏儀采用偏振光分析法（也稱為橢圓偏振光譜測量技術(shù)），該方法是利用偏振光在材料表面反射后，相應(yīng)偏振態(tài)的改變來測量該材料的光學(xué)性質(zhì)。

橢偏儀概況

橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測量設(shè)備。由于并不與樣品接觸，對樣品沒有破壞且不需要真空，使得橢偏儀成為一種極具吸引力的測量設(shè)備。

橢偏儀應(yīng)用

橢偏儀可測的材料包括：半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機物、金屬、多層膜物質(zhì)。

橢偏儀涉及領(lǐng)域有：半導(dǎo)體、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥等。

橢偏法測量優(yōu)點

1、能測量很薄的膜(1nm)，且精度很高，比干涉法高1~2個數(shù)量級。

2、是一種無損測量，不必特別制備樣品，也不損壞樣品，比其他精密方法如稱重法、定量化學(xué)分析法簡便。

3、可同時測量膜的厚度、折射率以及吸收率。因此可以作為分析工具使用。

4、對一些表面結(jié)構(gòu)、表面過程和表面反應(yīng)相當(dāng)敏感，是研究表面物理的一種方法。

橢偏儀的分類及介紹

橢偏儀按照測試原理的不同，主要分為消光式和光度式兩類。大體可以分為PCSA 型消光式橢偏儀、旋轉(zhuǎn)偏振器件型橢偏儀、相位調(diào)制型橢偏儀、橢偏光譜儀、紅外橢偏光譜儀、成像橢偏儀和廣義橢偏儀。

橢偏儀廠家介紹

今天，小編為大家介紹的這家橢偏儀廠家——HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部，公司總部自1953年成立，是一家分析檢測儀器和設(shè)備制造商，并且以其高精尖的產(chǎn)品成功地將市場拓展到了全球各個國家和地區(qū)。

HORIBA 研究級全自動橢偏儀UVISEL 2

技術(shù)參數(shù)：

光譜范圍：190-2100 nm

8種光斑尺寸: 小35 X 85 um

探測器：3個獨立探測器，分別優(yōu)化紫外，可見和近紅外

自動樣品臺尺寸：200mm X 200mm；XYZ方向自動調(diào)節(jié); Z軸高度>35mm

樣品水平度自動調(diào)整

自動量角器：變角范圍35°- 90°，全自動調(diào)整，小步長0.01°

HORIBA一鍵式全自動快速橢偏儀 Auto SE

主要特點

1. 液晶調(diào)制技術(shù)，無機械轉(zhuǎn)動部件，重復(fù)性，信噪比高

2. 技術(shù)成像技術(shù)，所有樣品均可成像，對于透明樣品，自動去除樣品的背反射信號，使得數(shù)據(jù)分析更簡單

3. 反射式微光斑，覆蓋全譜段，利于非均勻樣品圖案化樣品測試

4. 全自動集成度高，安裝維護簡便

5. 一鍵式操作軟件，快速簡單

6. 自動MAPPING掃描，分析樣品鍍膜均勻性

技術(shù)參數(shù)

1. 光譜范圍：450-1000 nm

2. 多種微光斑自動選擇

3. 光斑可視技術(shù)，可觀測任何樣品表面

4. 自動樣品臺尺寸：200mmX200mm；XYZ方向自動調(diào)節(jié); Z軸高度>35mm

5. 70度角入射

6. CCD探測器

參考資料：

朱緒丹等.《橢圓偏振光譜測量技術(shù)及其在薄膜材料研究中的應(yīng)用》HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部