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蔭罩掩膜對(duì)準(zhǔn)器 Shadow Mask Aligner

設(shè)備簡(jiǎn)介：

本設(shè)備可以用于精確和可重建性的對(duì)準(zhǔn)蔭罩掩膜和晶圓?？梢苑庞谡婵涨惑w用于PVD工藝。沉積后，夾盤(pán)可以打開(kāi)，晶圓和掩膜可以不破壞的分離，并且掩膜板可以重復(fù)利用。

夾盤(pán)可以用于任何基底尺寸以滿(mǎn)足用戶(hù)的要求，并且我們也可以提供精確和經(jīng)濟(jì)的由金屬、硅、玻璃、陶瓷等制造的蔭罩掩膜。

產(chǎn)品型號(hào)：SMA-100，SMA-150，SMA-200

晶圓和蔭罩尺寸：100mm，150mm，200mm，取決于設(shè)備的配置

樣品臺(tái)特征：

X和Y方向范圍：步進(jìn)10μm，靈敏度2μm

Z方向范圍：步進(jìn)10μm，靈敏度2μm

旋轉(zhuǎn)角度：360°不間斷

傾斜：工廠校準(zhǔn)，工程師手動(dòng)調(diào)節(jié)

對(duì)準(zhǔn)精度（濺射后）

線性對(duì)準(zhǔn)：典型值6μm， ZUI大值10μm

旋轉(zhuǎn)對(duì)準(zhǔn)：0.001°到0.009°

夾盤(pán)

晶圓尺寸：100mm，150mm，200mm

夾盤(pán)材料：陽(yáng)極氧化鋁或非陽(yáng)極氧化鋁

夾盤(pán)厚度：20mm取決于晶圓和掩膜的厚度

蔭罩掩膜（客戶(hù)可定制蔭罩掩膜）

材料：硅、石英、玻璃、金屬、陶瓷

儀器尺寸：500mm x 250mm

安裝需求：用于對(duì)準(zhǔn)過(guò)程中用來(lái)觀察的顯微鏡、真空

注：可以根據(jù)用戶(hù)的需求進(jìn)行定制。

優(yōu)點(diǎn)：

精確和可重建性的PVD涂層構(gòu)建

用于PVD的減震夾盤(pán)

易用、對(duì)晶圓無(wú)損夾持機(jī)構(gòu)

由于真空夾持，可以在對(duì)準(zhǔn)的過(guò)程簡(jiǎn)單操作

可以用于不同的晶圓尺寸

不需要安裝

低運(yùn)行成本