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德國海德堡Heidelberg激光直寫光刻機 MLA100
適合用科研領域的中小型實驗室與大學研究所
支持套刻直寫功能
MLA100聚焦于合理價格下依然維持高性能，是許多研發(fā)應用的理想光刻解決方案。該光學系統(tǒng)設計為以50mm2/min的速度在光刻膠中直寫出1μm結構，而無需使用掩膜板。從光刻工藝中免除掩膜板步驟制程以增加靈活性并顯著縮短圖形制作周期。MLA100由曝光指引系統(tǒng)(GUI)控制，該系統(tǒng)可指導操作員完成整個過程：加載基材信息，選擇設計并開始曝光。面積為60x75cm2的MLA100設計用于安裝在中小型的研發(fā)實驗室中，只需要電源和壓縮空氣即可運行。
MLA100的應用包括Life Science， MEMS， Micro-Optics， Semiconductor， Sensors， Actuators， MOEMS， Material Research， Nano-Tubes， Graphene以及任何其他需要微結構的應用。
功能:
刻寫速度:50 mm2/分鐘的速度
基板尺寸:6 x 6”
曝露面積:100 x 100毫米
結構精度:1μm
大功率LED光源
基于SLM光引擎
多種數據輸入格式
基本灰度曝光模式
對準攝像系統(tǒng)
實時自動對焦
User-optimized接觸向導
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