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光反射薄膜厚度測量儀
光反射薄膜厚度測量儀

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美國

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上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

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光反射薄膜測厚儀

原產(chǎn)國:美國

薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān),因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù),我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。

該產(chǎn)品是一款價格適中、功能強大的膜厚測量儀器,近幾年,每年的全球銷售量都超過200臺。根據(jù)型號不同,測量范圍可以從10nm到250um,它**可以同時測量4個膜層中的3個膜層厚度(其中一層為基底材料)。該產(chǎn)品可應(yīng)用于在線膜厚測量、測氧化物、SiNx、感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜。也可以用來測量鍍在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。

應(yīng)用領(lǐng)域

理論上講,我們的光干涉膜厚儀可以測量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下為我們*熟悉的應(yīng)用領(lǐng)域(半導(dǎo)體薄膜,光學(xué)薄膜涂層,在線原位測量,粗糙或弧度表面測量):

□ 晶片或玻璃表面的介電絕緣層(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...);

□ 晶片或玻璃表面超薄金屬層(Ag, Al, Au, Ti, ...);

□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂層;SOI硅片;

□ MEMs厚層薄膜(100μm up to 250μm);

□ DVD/CD涂層;

□ 光學(xué)鏡頭涂層;

□ SOI硅片;

□ 金屬箔;

□ 晶片與Mask間氣層;

□ 減薄的晶片(< 120μm);

□ 瓶子或注射器等帶弧度的涂層;

□ 薄膜工業(yè)的在線過程控制;等等…

軟件功能

豐富的材料庫:操作軟件的材料庫帶有大量材料的n和k數(shù)據(jù),基本上的常用材料都包括在這個材料庫中。用戶也可以在材料庫中輸入沒有的材料。

軟件操作簡單、測速快:膜厚測量儀操作非常簡單,測量速度快:100ms-1s。

軟件針對不同等級用戶設(shè)有一般用戶權(quán)限和管理者權(quán)限。

軟件帶有構(gòu)建材料結(jié)構(gòu)的拓展功能,可對單/多層薄膜數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合分析,可對薄膜材料進(jìn)行預(yù)先模擬設(shè)計。

軟件帶有可升級的掃描功能,進(jìn)行薄膜二維的測試,并將結(jié)果以2D或3D的形式顯示。軟件其他的升級功能還包括在線分析軟件、遠(yuǎn)程控制模塊等。

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