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離子束濺射沉積系統(tǒng)
Description:
●低壓濺鍍沉積(10-4Torr)
●高質(zhì)量、平滑、無針孔無針孔薄膜
●可實(shí)現(xiàn)<+/-3%的均勻沉積
●增強(qiáng)的附著力和微觀結(jié)構(gòu)控制
●**的覆蓋效果高寬比特征
●獨(dú)立控制離子束參數(shù)，使用戶能夠設(shè)計薄膜以獲得所需的特性
●低能量離子輔助端霍爾離子源
暫無數(shù)據(jù)！
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移動端
工商已核實(shí)
