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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) TEMD600品牌
研博智創(chuàng)產(chǎn)地
河北樣本
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一、整機(jī)簡(jiǎn)述 特點(diǎn)/用途 TEMD600電子束多功能蒸發(fā)鍍膜機(jī)系統(tǒng)具有真空度高、抽速快、基片裝卸方便的特點(diǎn)。配備E型電子束蒸發(fā)源和2組電阻蒸發(fā)源、可選配在線膜厚檢測(cè)系統(tǒng)及離子源清洗及輔助沉積裝置。具有成膜均勻、放氣量小和溫度均勻的優(yōu)點(diǎn)。除了常規(guī)低熔點(diǎn)金屬的蒸鍍以外,TEMD600還可以蒸鍍難熔金屬和非金屬材料等可應(yīng)用于制備光學(xué)薄膜、導(dǎo)電薄膜,半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜等。 該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品等,深受廣大用戶(hù)好評(píng)。 二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) 1.真空腔室 腔室內(nèi)尺寸Φ600×750mm,不銹鋼腔室通水冷卻; 2.真空系統(tǒng) 復(fù)合分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng),氣動(dòng)真空閥門(mén),“兩低一高”數(shù)顯復(fù)合真空計(jì); 3.極限真空 空載優(yōu)于5.0×10-5Pa(設(shè)備空載抽真空24小時(shí)); 4.抽速 空載從大氣抽至5.0×10-4Pa≤40min; 5.漏率 設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h; 設(shè)備保壓:停泵12小時(shí)候后,真空≤10Pa; 6.電子槍蒸發(fā)源 功率:8000W;6穴坩堝; 蒸發(fā)源與基片距離≥500mm; 7.電阻蒸發(fā)源 2組金屬蒸發(fā)源;1臺(tái)3000W蒸發(fā)電源供2組蒸發(fā)源切換使用; 8.離子源(選配) Φ200px考夫曼離子源(含電源)1臺(tái);預(yù)留位置,用戶(hù)選配; 9.基片臺(tái)尺寸 Φ350mm球罩型基片臺(tái); 10.基片旋轉(zhuǎn) 旋轉(zhuǎn)速度:0~20轉(zhuǎn)/分鐘,可調(diào)可控,可加偏壓; 11.基片臺(tái)加熱 300℃±1℃; 12.控制方式 PLC+觸摸屏人機(jī)界面半自動(dòng)控制系統(tǒng); 13.報(bào)警及保護(hù) 對(duì)泵、電極等缺水、過(guò)流過(guò)壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施;完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng); 14.占地面積 長(zhǎng)×寬: 2500×1600mm。
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