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一.整機(jī)簡述： PLC觸摸屏控制，操控方便，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等； 1. 在微米級(jí)以上粉體顆粒表面沉積各種納米級(jí)單層及多層導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜 2.系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面金屬化，由顆粒表面絕緣性質(zhì)通過在表面涂覆金屬層達(dá)到表面導(dǎo)電，例如：金剛石顆粒表面鍍鉻、碳化硅表面鍍鈦，氧化鋁表面鍍鎳等。 3.系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面反射率的改變，應(yīng)用于化妝品、汽車等高端外觀粉體涂料，例如：玻璃微珠鍍氧化鈦等； 4.系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面層成份改變，應(yīng)用于新型合金材料改變其中某一成份含量； 5.系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面沉積新材料，有效提高粉體固化粘結(jié)強(qiáng)度，例如：金剛石粉鍍鉻等； 6.廣泛應(yīng)用于粉體燒結(jié)、3D打印原材料、粉體表面光學(xué)性能改變等行業(yè)及研究方向； 二.設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)： 1真空腔室 φ350 mm×H350mm， 304優(yōu)質(zhì)不銹鋼真空腔室； 2真空系統(tǒng) 復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空氣/電動(dòng)閥門高真空系統(tǒng)，數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)； 3真空指標(biāo) 極限真空優(yōu)于6.6×10-4Pa（設(shè)備空載抽真空24小時(shí)）； 設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h 4抽速 空載從大氣抽至5.0×10-3Pa≤20min； 5粉體托盤 不銹鋼粉體托盤內(nèi)尺寸：Φ90mm x25mm,  含高頻振動(dòng)裝置，擺動(dòng)頻率0-10次/min可調(diào)，可放入30克粉振動(dòng)鍍膜； 襯底加熱：室溫～300℃，PID智能控溫；  6濺射靶及電源 2英寸磁控濺射靶2只，磁控靶可兼容直流/射頻電源濺射；  1臺(tái)1kw直流脈沖濺射電源，1臺(tái)500W自動(dòng)匹配射頻濺射電源； 7控制方式 PLC+觸摸屏控制方式； 8報(bào)警及保護(hù) 對(duì)泵、靶、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)。