看了SDCOM小型衍射儀的用戶又看了
虛擬號(hào)將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號(hào)
用于晶體取向測(cè)量的 SDCOM 小型衍射儀
用于單晶(晶錠和晶圓)的材料研究、生產(chǎn)和質(zhì)量控制的臺(tái)式XRD設(shè)備。
Si | SiC | 金剛石 | AIN | GaAs | 石英 | LiNbO? | bbo | GaN 和其他一百多種材料。
SDCOM的特點(diǎn)
超快速測(cè)量:樣品旋轉(zhuǎn)一次(即10秒內(nèi))即可捕獲所有所需的晶體取向參數(shù)
多種樣品尺寸:可測(cè)量直徑從1mm到200mm的樣品
可對(duì)任何單晶材料進(jìn)行全自動(dòng)分析和取向測(cè)定
典型標(biāo)準(zhǔn)偏差 (Si 100):傾角幅度<0.01° ,傾角方向<0.03°
正常運(yùn)行時(shí)間:>99%
Theta 掃描功能:用于復(fù)雜的研究和材料表征
轉(zhuǎn)移技術(shù):實(shí)現(xiàn)一束切割光束中*多可處理6個(gè)定向好的晶體
可與SECS/GEM等MES集成
暫無數(shù)據(jù)!
隨著動(dòng)力電池和新能源汽車的需求爆發(fā),鋰電正極材料也正在快速迭代,其中三元材料逐漸成為動(dòng)力電池的主流選擇。目前三元材料中的鎳鈷錳成分分析多采用ICP分析方法,化學(xué)分析過程相對(duì)復(fù)雜、分析時(shí)間長(zhǎng)、梯度稀釋誤
2021-08-06
在科研與產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新的過程中,作為核心生產(chǎn)研發(fā)設(shè)備的精密儀器,其先進(jìn)性及性能穩(wěn)定性
時(shí)間:2025年4月18日-20日 展館:大連國(guó)際會(huì)議中心 &n
展期:2025年3月10日-12日展館:上海世博展覽館 H1 號(hào)館地址:上海市?浦東博成路850號(hào)展位號(hào):H1-A4262025年3月10日至12日,馬爾文帕納科(Malvern Panalytica
本文摘要使用Zetasizer納米粒度電位儀進(jìn)行預(yù)制備樣品電位測(cè)量時(shí),樣品中產(chǎn)生的氣泡會(huì)顯著影響測(cè)量結(jié)果。本文將通過實(shí)際案例展示如何通過超聲脫氣與馬爾文帕納科專利的擴(kuò)散屏障法[2]結(jié)合使用,來保障預(yù)制
本文摘要納米氣泡的粒度表征,受限于其顆粒濃度低、粒徑分布寬等特點(diǎn),若使用動(dòng)態(tài)光散射(DLS)技術(shù)進(jìn)行測(cè)試,信號(hào)弱,數(shù)據(jù)質(zhì)量較差。本文將介紹利用納米顆粒跟蹤(NTA)技術(shù)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)、可視化的納米氣泡顆粒表
本文摘要磨料用SiO2 漿料的顆粒粒度對(duì)硅晶片的微觀形貌有直接影響,進(jìn)而會(huì)影響到后續(xù)工序電介質(zhì)膜的均勻性;此外,漿料的穩(wěn)定性也會(huì)影響晶片拋光過程,所以磨料的顆粒表征非常重要,本文介紹了利用動(dòng)態(tài)光散射技