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看了SiC高溫氧化設(shè)備的用戶又看了
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概要:
? 專門(mén)用于硅碳化合物(SiC) 的氧化處理,可實(shí)現(xiàn)SiC片在高溫真空環(huán)境下完成高溫氧化工藝。氧化工藝使用濕法氧化氣體或N2O、NO、NO2,是*安全的毒性氣體氧化爐 ? 設(shè)備適用于SiC基功率器件制造中的高溫氧化工藝環(huán)節(jié) ? 加熱腔與工藝腔獨(dú)立密閉設(shè)計(jì),提供工藝腔的潔凈度
暫無(wú)數(shù)據(jù)!
產(chǎn)品質(zhì)量
售后服務(wù)
易用性
性價(jià)比
XRD系列晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
紅外快速退火爐系統(tǒng)
自動(dòng)劃片機(jī)
DAGE4000多功能推拉力測(cè)試機(jī)
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